[实用新型]抛光头清洗装置

说明书

本实用新型为一种抛光头清洗装置，包括，基板，能固定连接于机体上；毛刷结构，包括基板上方能拆卸地设置的第一毛刷部和第二毛刷部，第一毛刷部和第二毛刷部能升降且能旋转，第一毛刷部用于刷洗抛光头的侧面，第二毛刷部用于刷洗抛光头的加工端面；旋转驱动结构，包括第一旋转部和第二旋转部；升降结构，连接于基板的底部且向下延伸设置，升降结构用于驱动毛刷结构和旋转驱动结构沿竖直方向升降；喷水结构，用于喷水冲洗抛光头；控制部，旋转驱动结构、升降结构和喷水结构均与控制部电连接。该装置可以有效清洗抛光头，防止在吸取硅片的时候抛光头上有异物对硅片造成划伤或者异物掉落在硅片上，保证硅片的性能。

技术领域

本实用新型涉及硅片研磨的技术领域，尤其涉及一种抛光头清洗装置。

背景技术

单晶硅作为一种重要的半导体材料，具有良好的电学性能和热稳定性，自被人们发现和利用后很快替代其它半导体材料。硅材料因其具有耐高温和抗辐射性能较好，特别适用于制作大功率器件的特性而成为应用最多的一种半导体材料，集成电路半导体器件大多数由硅材料制成的。在制造性能良好的硅单晶方法中，直拉法生长硅单晶具有设备和工艺相对简单、容易实现自动控制。直拉单晶硅棒从单晶炉中拉制出来以后需要进行一系列的工序，前期包括截断、开方、圆角研磨和平面研磨等机械加工；中期还需要将单晶硅棒进行滚磨、切片、清洗、倒角、研磨和再清洗等工；后期将硅片进行制绒、扩散、结晶和烧结等工序后才能制造成半导体器件或用于光伏发电的太阳能电池片。

其中在中期研磨工序中，硅片与研磨盘属于干摩擦，容易使研磨盘表面发热而损坏，同时热量还会烧伤硅片。抛光头和吸附垫上有异物，加工时对硅片造成划伤或者掉落在硅片上，影响硅片的性能。

由此，本发明人凭借多年从事相关行业的经验与实践，提出一种抛光头清洗装置，以克服现有技术的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抛光头清洗装置，克服现有技术中存在的抛光头上异物磨损造成硅片损伤、影响硅片性能等问题，该装置可以有效清洗抛光头，防止在吸取硅片的时候抛光头上有异物对硅片造成划伤或者异物掉落在硅片上，保证硅片的性能。

本实用新型的目的是这样实现的，一种抛光头清洗装置，包括，

基板，能固定连接于机体上；

毛刷结构，包括基板上方平行间隔且能拆卸地设置的第一毛刷部和第二毛刷部，所述第一毛刷部和第二毛刷部能升降且能旋转，所述第一毛刷部用于刷洗抛光头的侧面，所述第二毛刷部用于刷洗抛光头的加工端面；

旋转驱动结构，包括能分别驱动所述第一毛刷部和第二毛刷部旋转的第一旋转部和第二旋转部；

升降结构，连接于所述基板的底部且向下延伸设置，所述升降结构用于驱动所述毛刷结构和所述旋转驱动结构沿竖直方向升降；

喷水结构，用于喷水冲洗抛光头；

控制部，所述旋转驱动结构、所述升降结构和所述喷水结构均与所述控制部电连接。

在本实用新型的一较佳实施方式中，所述毛刷结构包括一所述第一毛刷部和两个所述第二毛刷部，所述第一毛刷部设置于两个所述第二毛刷部之间，所述毛刷结构能同时清洗两个抛光头。

在本实用新型的一较佳实施方式中，所述第一旋转部包括穿过所述基板设置的第一旋转轴，所述第一毛刷部能拆卸地连接于第一旋转轴的顶端，所述第一旋转轴位于所述基板下方的一端连接设置第一伺服马达，所述第一伺服马达用于驱动所述第一旋转轴和所述第一毛刷部周向旋转，所述第一旋转轴的底端设置第一同步带轮，所述第一伺服马达的输出端设置第二同步带轮，所述第一同步带轮和所述第二同步带轮上套设第一同步带；所述第一伺服马达架设于第一马达基座上，所述升降结构包括能驱动所述第一马达基座、所述第一伺服马达、所述第一旋转轴和所述第一毛刷部升降的第一气缸；