[实用新型]带有肖特基结型场板的高电子迁移率晶体管有效

专利信息
申请号: 201922450345.8 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN210956684U 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 贺洁;王书昶;张雄;黄飞明;励晔 申请(专利权)人: 无锡硅动力微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L21/335;H01L29/40
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;涂三民
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 带有 肖特基结型场板 电子 迁移率 晶体管
【权利要求书】:

1.一种带有肖特基结型场板的高电子迁移率晶体管,包括衬底(1)、缓冲层(2)、势垒层(3)、源极金属(4)、漏极金属(5)、第一钝化层(61)、第二钝化层(62)、P型栅极(7)、栅极金属(8)与肖特基结型场板(9);其特征是:

在衬底(1)的上表面固定有缓冲层(2),在缓冲层(2)的上表面固定有势垒层(3),在势垒层(3)的上表面固定有源极金属(4)、第一钝化层(61)、P型栅极(7)、肖特基结型场板(9)、第二钝化层(62)与漏极金属(5),源极金属(4)的右端面与第一钝化层(61)的左端面相接,第一钝化层(61)的右端部分延伸到P型栅极(7)的上方,P型栅极(7)的右端面与肖特基结型场板(9)的左端面相接,肖特基结型场板(9)的右端部分延伸到第二钝化层(62)的上方,第二钝化层(62)的右端面与漏极金属(5)的左端面相接;

在延伸到P型栅极(7)上方的第一钝化层(61)上开设有连通孔,在连通孔内以及P型栅极(7)上方的第一钝化层(61)的上表面设有栅极金属(8),且栅极金属(8)和肖特基结型场板(9)采用同一种金属制作。

2.根据权利要求1所述的带有肖特基结型场板的高电子迁移率晶体管,其特征是:所述源极金属(4)的厚度大于第一钝化层(61)的厚度。

3.根据权利要求1所述的带有肖特基结型场板的高电子迁移率晶体管,其特征是:所述漏极金属(5)的厚度大于第二钝化层(62)的厚度。

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