[实用新型]一种磁瓦内弧面检测装置有效

专利信息
申请号: 201922392108.0 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN211528192U 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 张伟 申请(专利权)人: 苏州香农智能科技有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/954
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 王艳
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁瓦内弧面 检测 装置
【权利要求书】:

1.一种磁瓦内弧面检测装置,设置于传送带两侧用于对传送带上传送的磁瓦进行缺陷检测,其特征在于,包括:所述检测装置包括第一检测组件、第二检测组件以及第三检测组件,所述第一检测组件设置为两组,包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源,所述第一检测组件用于对所述磁瓦内弧面的两端及弧面弓高进行拍照取像检测;所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机以及第二检测光源,所述第二检测组件用于对所述磁瓦的三分之一个内弧面进行拍照取像检测;所述第三检测组件包括第三检测支架、第三检测相机以及第三检测光源,所述第三检测组件用于对所述磁瓦的整个内弧面进行拍照取像检测。

2.根据权利要求1所述的一种磁瓦内弧面检测装置,其特征在于,两组所述第一检测支架分别设置于所述传送带的两侧,且设置于所述传送带的上方;所述第一检测相机活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源配合。

3.根据权利要求2所述的一种磁瓦内弧面检测装置,其特征在于,两组所述第一检测光源为通过第一光源支架设置于所述传送带两侧的第一条形光源。

4.根据权利要求1所述的一种磁瓦内弧面检测装置,其特征在于,所述第二检测相机活动设置于所述第二检测支架上并与所述第二检测光源配合,所述第二检测光源为通过第二光源支架设置于所述传送带一侧的第二条形光源。

5.根据权利要求1所述的一种磁瓦内弧面检测装置,其特征在于,所述第三检测相机活动设置于所述第三检测支架上并与所述第三检测光源配合,所述第三检测光源为通过第三光源支架设置于所述传送带正上方的第三大碗光源。

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