[实用新型]一种溅射靶材打磨装置有效
| 申请号: | 201922336297.X | 申请日: | 2019-12-23 |
| 公开(公告)号: | CN211516950U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
| 发明(设计)人: | 邢伟亮 | 申请(专利权)人: | 中诺新材(北京)科技有限公司 |
| 主分类号: | B24B7/10 | 分类号: | B24B7/10;B24B27/00;B24B41/06;B24B55/06;B24B41/02 |
| 代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 | 代理人: | 陈践实 |
| 地址: | 100089 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 溅射 打磨 装置 | ||
本实用新型涉及一种溅射靶材打磨装置,包括机架、设置在机架上的立柱、连接于立柱上的打磨头、水平设置在机架上的磨床、设置在磨床上表面上的若干校直线、活动设置在磨床上的夹具、设置在机架外围的挡板、挂设在挡板上的气枪,气枪内通有高压气体,磨床为具有吸合功能的磁性磨床,磨床与夹具吸合配合;夹具为E型结构,夹具竖直固定架、垂直设置在竖直固定架上的三个横杆、对应设置在其中相邻的两个横杆上的螺纹孔、穿过螺纹孔的螺杆、分别设置在螺杆两端的把手和挡片。本装置可实现高精度打磨,并有效夹紧溅射靶材,防止跑偏;同时气枪可实现碎屑的及时清除,具有使用简单的特点。
技术领域
本专利申请属于溅射靶材加工设备技术领域,更具体地说,是涉及一种溅射靶材打磨装置。
背景技术
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物) 含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等。
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属,合金,陶瓷化合物等。
打磨装置是将溅射靶材进行进一步地加工,以获取理想的光滑性能,但目前的打磨装置不符合溅射靶材的生产要求,打磨性能不够好,无法进行局部位置的针对性打磨,同时打磨出的边角料无法进行有效收集,影响生产的稳定进行,因此需要专门进行溅射靶材用打磨装置的研制。
实用新型内容
本实用新型需要解决的技术问题是提供一种溅射靶材打磨装置,该装置机械结构简单可靠,可以对溅射靶材进行针对性打磨,使用方便。
为了解决上述问题,本实用新型所采用的技术方案是:
一种溅射靶材打磨装置,包括机架、设置在机架上的立柱、连接于立柱上的打磨头、水平设置在机架上的磨床、设置在磨床上表面上的若干校直线、活动设置在磨床上的夹具、设置在机架外围的挡板、挂设在挡板上的气枪,气枪内通有高压气体,磨床为具有吸合功能的磁性磨床,磨床与夹具吸合配合;
夹具为E型结构,夹具包括一竖直固定架、垂直设置在竖直固定架上的三个横杆、对应设置在其中相邻的两个横杆上的螺纹孔、穿过螺纹孔的螺杆、分别设置在螺杆两端的把手和挡片,螺纹孔位于中间位置和外端位置的横杆上,把手位于外端位置的横杆外侧,挡片位于中间位置和内端位置的横杆之间,磨床与竖直固定架吸合配合,挡片与内端位置的横杆之间的容置腔用于夹紧待打磨的溅射靶材。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:立柱为可调立柱。比如机架上还设有与打磨头连接的驱动电机,立柱上设有用于垂直运动的快速升降装置和横向运动的变频电机,通过快速升降装置和变频电机带动立柱移动实现立柱位置的精准调节。快速升降装置为液压杆,安装和操作简便,使用方便。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:磨床为矩形。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:打磨头为滚动轴承结构。
本实用新型技术方案的进一步改进在于:气枪的气枪口安装有加长出气管,加长出气管的出气端为倾斜端,气枪口与供气管之间活动连接有过渡连接件。该种气枪具有可随意弯曲、旋转及安装方便的特点,可广泛应用于各种场合上。
由于采用了上述技术方案,本实用新型取得的有益效果是:本装置可实现高精度打磨。并有效夹紧溅射靶材,防止跑偏。同时气枪可实现碎屑的及时清除,挡板的阻挡可对打磨出的边角料进行有效收集,具有使用简单、精度高、效率块、寿命长的特点。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
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