[实用新型]光学成像系统、取像装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 201922244281.6 申请日: 2019-12-13
公开(公告)号: CN211263927U 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 杨健;李明 申请(专利权)人: 南昌欧菲精密光学制品有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 熊永强
地址: 330096 江西省南昌市南昌*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统 装置 电子设备
【说明书】:

实用新型提供一种光学成像系统,其由物侧到像侧依次包括具有正光焦度的第一透镜;具有负光焦度的第二透镜;具有负光焦度的第三透镜;具有光焦度的第四透镜;及具有光焦度的第五透镜;其中,所述光学成像系统满足条件式:0.5map2/map1;其中,map2为所述光学成像系统对角方向的视场角最大时,光线在所述第五透镜像侧面的通光孔径;map1为中心视场光线在所述第五透镜像侧面的通光孔径。本实用新型的光学成像系统,在保证小型化同时,具有较大的进光量,相对亮度高,在光线不足环境下具有高成像品质。此外,本实用新型还提供了一种取像装置及电子设备。

技术领域

本实用新型涉及光学成像技术,特别涉及一种光学成像系统、取像装置及电子设备。

背景技术

随着摄像相关技术的不断发展,拍照已经成为了智能电子产品的一种标配功能,消费者对有理想拍照效果的电子产品的需求也越来越高,一些高像素的光学成像系统在配合优化软件算法的应用下,具有很好的拍照效果,给消费者带来了极佳的体验。然而,随着感光元件(Charge Coupled Device,CCD)或互补性氧化金属半导体元件(ComplementaryMetal-Oxide Semiconductor,CMOS)等常用感光元件性能的提高及尺寸的增加,感光元件的像元数增加及像元尺寸的减小,从而对成像镜头小型化特点提出了更高的要求,而且针对在光线不足的环境,如夜晚,阴雨天,星空等,对镜头的进光量要求更高。同时,为保证光学镜头的高成像质量,便需要更多的镜片数量来实现,必然会对镜头的小型化设计带来更多的困难。现有的光学成像系统,在满足小型化的同时,相对亮度较低,不能很好的满足光线不足环境的拍摄需求。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型提供一种光学成像系统,其在保证小型化同时,具有较大的进光量,相对亮度高,在光线不足环境下具有高成像品质。

还有必要提供一种使用上述光学成像系统的取像装置。

此外,还有必要提供一种使用上述取向装置的电子设备。

一种光学成像系统,其由物侧到像侧依次包括:

具有正光焦度的第一透镜;

具有负光焦度的第二透镜;

具有负光焦度的第三透镜;

具有光焦度的第四透镜;及

具有光焦度的第五透镜;

其中,所述光学成像系统满足条件式:0.5map2/map1;

其中,map2为所述光学成像系统对角方向的视场角最大时,光线在所述第五透镜像侧面的通光孔径;map1为中心视场光线在所述第五透镜像侧面的通光孔径。

当map2/map1的比值大于0.5时,有利于提升光学成像系统的相对亮度,使光学成像系统更适用于光线不足的拍摄环境。

其中,所述第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜均为非球面透镜。采用非球面透镜,可以容易制作成球面以外的形状,获得更多的控制变数,有利于消减像差,以较少枚数的透镜获得良好成像的优点;进而减少透镜数量,满足小型化。

其中,所述第一透镜的物侧面近光轴处为凸面,圆周处为凹面;像侧面圆周处为凸面。这样有利于提高光焦度,更好地汇聚光线,减弱球差。

其中,所述第二透镜物侧面圆周处为凸面;像侧面近光轴处和圆周处均为凹面。这样有利于,发散光线,与第一透镜互相补偿,减小色差。

其中,所述第三透镜物侧面近光轴处为凹面,圆周处为凸面;像侧面圆周处为凹面。这样有利于发散光线,与第一透镜相互补偿,减小色差,同时,可以提升光学成像系统的焦距。

其中,所述第四透镜像侧面近光轴处和圆周处均为凸面。这样有利于提升光线入射锥角,从而提升光学成像系统的相对亮度。

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