[实用新型]一种退火设备

说明书

本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域，具体公开一种退火设备。该退火设备包括退火腔室、冷却机构和电极机构，退火腔室用于放置硅片组，硅片组包括叠垛的多个待退火硅片，冷却机构包括设置于退火腔室内的恒温箱，恒温箱的四周壁为中空结构，恒温箱的四周壁内盛放有冷却液，硅片组位于恒温箱内，电极机构包括分别设置于退火腔室内顶面的上电极板和位于恒温箱内底面的下电极板，上电极板能够与硅片组中位于最上层的待退火硅片的表面相抵接，下电极板能够与硅片组中位于最下层的待退火硅片的表面相抵接。通过设置冷却机构，用于在硅片组的周向散热，保证硅片组的温度保持均匀，退火效果较好，且能够适应于需要大电流低温度工艺的硅片的退火处理。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域，尤其涉及一种退火设备。

背景技术

光致衰减现象是指太阳能硅片以及光伏组件在受到光照后会产生功率衰减的现象。功率衰减将直接减少太阳能硅片的发电量，当功率衰减超过一定范围时，太阳能硅片将会在光伏电站运行时存在较大的发电量波动。为了减少此现象带来的影响，在太阳能硅片制造工艺中，会对其进行退火处理，将不稳定状态的太阳能硅片恢复到一个亚稳定或稳定的状态，可减少后续的光致衰减现象。

在退火处理时，如果保持硅片处于通电状态，能够使得硅片具有较好的退火效果。现有技术中的退火设备通常包括退火腔室，退火腔室内承载有叠垛的多个硅片，电极的两极分别连接最上层的硅片和最下层的硅片，硅片在通电状态时会产生大量的热量，退火腔室内还设置有抽风组件和散热风刀，对退火腔室进行散热。但是抽风组件和散热风刀的风力有限，散热不均匀，且抽风组件一般设置于退火腔室的上部，导致位于下方的硅片容易出现温度过高的现象，影响退火效果。此外，对于需要大电流低温度工艺退火处理的硅片，现有技术中的退火设备很难满足。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种退火设备，能够保证叠垛的硅片的温度均匀，退火效果较好，且能够适应于需要大电流低温度工艺的硅片的退火处理。

如上构思，本实用新型所采用的技术方案是：

一种退火设备，包括：

退火腔室，用于放置硅片组，所述硅片组包括叠垛的多个待退火硅片；

冷却机构，其包括设置于所述退火腔室内的恒温箱，所述恒温箱的四周壁为中空结构，所述恒温箱的四周壁内盛放有冷却液，所述硅片组位于所述恒温箱内；

电极机构，其包括分别设置于所述退火腔室内顶面的上电极板和位于所述恒温箱内底面的下电极板，所述上电极板能够与所述硅片组中位于最上层的所述待退火硅片的表面相抵接，所述下电极板能够与所述硅片组中位于最下层的所述待退火硅片的表面相抵接。

作为一种退火设备的优选方案，所述冷却机构还包括恒温泵，所述恒温泵的出口与所述恒温箱的进口相连通，所述恒温泵的进口与所述恒温箱的出口相连通。

作为一种退火设备的优选方案，所述冷却机构还包括设置于所述退火腔室上部的抽风组件。

作为一种退火设备的优选方案，所述退火设备还包括硅片放置架，所述硅片放置架设置于所述退火腔室内，用于承载所述硅片组。

作为一种退火设备的优选方案，所述硅片放置架包括：

容纳框；

第一导电板，其设置于所述容纳框内，所述硅片组放置于所述第一导电板上，所述第一导电板的下表面能与所述下电极板相抵接。

作为一种退火设备的优选方案，所述硅片放置架还包括多个限位支架，多个所述限位支架沿所述容纳框的周向间隔设置，所述硅片组容纳于多个所述限位支架围设的容纳空间内。

作为一种退火设备的优选方案，所述退火腔室内还设置有传输组件，所述传输组件用于带动所述硅片放置架进出所述退火腔室。