[实用新型]一种半导体器件整形装置有效

专利信息
申请号: 201922080650.2 申请日: 2019-11-27
公开(公告)号: CN211529917U 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 闫志旺 申请(专利权)人: 天津志臻自动化设备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 300000 天津市滨海新区华苑*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体器件 整形 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体器件整形装置,其特征在于:包括初步整形机构,所述的初步整形机构连接有输送整形机构,所述的输送整形机构还连接有出料控制机构,所述的初步整形机构包括整形毛刷安装板(10),所述的整形毛刷安装板(10)上固定有整形毛刷(7),所述的输送整形机构包括下滑道(18),所述的下滑道(18)的边缘设置有治具托盘(21),所述的下滑道(18)上设置有下滑道底板(5),所述的下滑道底板(5)上连接有下滑道固定压板(6),所述的下滑道固定压板(6)上设置有检测传感器(15),所述的下滑道底板(5)上还设置有振动器(4)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的整形毛刷(7)连接有整形毛刷联轴器(8),所述的整形毛刷联轴器(8)连接有无刷调速电机(16)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的下滑道固定压板(6)连接有压板升降旋转轴(13),所述的压板升降旋转轴(13)的一端连接有压板升降联轴器(17),所述的压板升降联轴器(17)连接有压板升降旋转驱动伺服器(9)。

4.根据权利要求3所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的下滑道固定压板(6)的上表面设置有压板下压导向(11)和水平调整组件(19)。

5.根据权利要求4所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的水平调整组件(19)固定有下压玻璃固定板(14),所述的下压玻璃固定板(14)位于所述的压板升降旋转轴(13)下侧。

6.根据权利要求5所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的压板下压导向(11)贯穿所述下压玻璃固定板(14)与所述下滑道固定压板(6)进行连接。

7.根据权利要求5所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的下压玻璃固定板(14)与所述的压板升降旋转轴(13)之间设置有压板上下凸轮(24)。

8.根据权利要求1所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的下滑道底板(5)上还设置有上下导轨支撑柱(3),所述的上下导轨支撑柱(3)上连接有上下滑块模组(23),所述的上下滑块模组(23)上设置有上下检测传感器(22),所述的上下滑块模组(23)上盖有上下导轨防尘罩(12)。

9.根据权利要求1所述的一种半导体器件整形装置,其特征在于:所述的出料控制机构包括下压玻璃板(20),所述的下压玻璃板(20)连接所述的下滑道底板(5),所述的下压玻璃板(20)上设置有气缸开闭门(1),所述的气缸开闭门(1)上设置有出料检测传感器(2)。

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