[实用新型]一种真空磁控溅射镀膜机有效
| 申请号: | 201921820841.1 | 申请日: | 2019-10-28 |
| 公开(公告)号: | CN212357371U | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
| 发明(设计)人: | 王军;何茵 | 申请(专利权)人: | 浙江三海微纳科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司: | 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 | 代理人: | 马晨博 |
| 地址: | 314000 浙江省嘉兴市南湖区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 真空 磁控溅射 镀膜 | ||
本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机,包括真空箱体、抽真空机构以及与工件架,所述工件架设置在所述真空箱体上端内部,所述工件架通过转动轴与设置在真空箱体上端的驱动电机相连接,所述工件架包括工件杆、工件圆盘以及工件中心杆,所述工件杆呈环形设置在所述工件圆盘,所述工件圆盘的圆心固定连接工件中心杆,所述工件杆为伸缩设置,所述工件杆远离中心圆盘对的一端设置工件安置架,所述工件安置架设置有中间杆以及分支架解决了传统工件架固定的,在不同的大小高度的物件,需要大小不同的工件架,这样容易造成工件架种类繁多,且造成工件架堆积,从而浪费资源的问题。
技术领域
本实用新型涉及镀膜机加工领域,具体涉及到一种真空磁控溅射镀膜机。
背景技术
磁控溅射镀膜主要用于电子工业、磁性材料及记录介质、光学及光导通讯等,具有高速、低温、低损伤等优点.高速是指沉积速率快;低温和低损伤是指基片的温升低,损伤小,常见的磁控溅射镀膜机中采用的工件架,是固定的,在不同的大小高度的物件,需要大小不同的工件架,进而会需求很多的工件架,而如此大量的工件架会造成工件架的大量堆积,不仅占空间,而且还浪费资源。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机,解决了传统工件架,是固定的,在不同的大小高度的物件,需要大小不同的工件架,进而会需求很多的工件架,而如此大量的工件架会造成工件架的大量堆积,不仅占空间,而且还浪费资源的问题。
(二)技术方案
为解决所述技术问题,本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机,包括真空箱体、抽真空机构以及与工件架,所述工件架设置在所述真空箱体上端内部,所述工件架通过转动轴与设置在真空箱体上端的驱动电机相连接,所述工件架包括工件杆、工件圆盘以及工件中心杆,所述工件杆呈环形设置在所述工件圆盘,所述工件圆盘的圆心固定连接工件中心杆,所述工件杆为伸缩设置,所述工件杆远离中心圆盘对的一端设置工件安置架,所述工件安置架设置有中间杆以及分支架。
本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述真空箱体包括真空风口,所述真空风口设置在所述真空箱体内壁上,所述抽真空机构通过真空管道与所述真空风口连接。
本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述工件架通过所述工件中心杆与所述转动轴相连接,所述转动轴底端设置有开口,所述工件中心杆顶端设置有环扣。
本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述分支架包括轴向均布的安置杆,所述分支架中心设置有可以穿过所述中间杆的通孔。
本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述工件中心杆通过所述环扣扣住所述转动轴上的开口形成可拆卸连接;所述转动轴上套设置有稳定装置,所述稳定装置包括外筒、内筒以及稳定珠,所述内筒设置在外筒内,且之间设置若干个稳定珠。
本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述工件杆至少设置有两杆,所述工件安置架至少设置有两个,且所述工件杆与所述工件圆盘可拆卸连接,所述工件安置架与所述工件杆可拆卸连接。
本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述驱动电机通过固定架设置在所述真空箱体顶部。
(三)有益效果
1.本实用新型采用了一种真空磁控溅射镀膜机,所述工件架可以调节自由调节的高度,可以根据物件的大小来设置工件架的高度,且所述工件杆设置为伸缩,可以根据需要工件大小,自由调节。
2.所述工件架中安装架可以拆卸,可以将镀膜好的产品直接通过安装架取下,然后接着将未镀膜的产品安装架放置到工件架上,进行工作。
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