[实用新型]离子源室及设备有效
| 申请号： | 201921761382.4 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN210668265U | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 蒋明亮 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子源 设备 | ||
1.一种离子源室，其特征在于，包括：
相对的第一电极和第二电极；其中，所述离子源室处于工作状态时，所述第一电极的电位高于所述第二电极的电位；
具有镂空区的第一侧板，所述第一电极位于所述镂空区内，所述第一电极与所述第一侧板绝缘。
2.根据权利要求1所述的离子源室，其特征在于，所述第一电极与所述第一侧板之间具有间隙。
3.根据权利要求2所述的离子源室，其特征在于，在垂直于所述第一侧板朝向所述第一电极的表面的方向上，所述间隙的宽度范围为0.5mm～2mm。
4.根据权利要求1所述的离子源室，其特征在于，还包括：固定部；所述固定部用于固定所述第一电极。
5.根据权利要求1所述的离子源室，其特征在于，在所述第一电极朝向所述第二电极的方向上，所述第一电极的底面凸出于所述第一侧板朝向所述第二电极的侧面；或者，所述第一电极的底面与所述第一侧板平齐。
6.根据权利要求5所述的离子源室，其特征在于，还包括：底板；在垂直于所述底板的方向上，所述第一电极与所述底板之间的距离为2mm～4mm。
7.根据权利要求1所述的离子源室，其特征在于，还包括：第二侧板，所述第二侧板与所述第一侧板相对设置，且所述第二电极嵌至所述第二侧板中。
8.根据权利要求7所述的离子源室，其特征在于，所述第二电极的材料与所述第二侧板的材料相同；所述第二电极与所述第二侧板一体结合。
9.根据权利要求1所述的离子源室，其特征在于，所述第一电极朝向所述第二电极的侧面为向远离所述第二电极方向弯曲的第一圆弧柱面；所述第二电极朝向所述第一电极的侧面为向远离所述第一电极方向弯曲的第二圆弧柱面；所述第一圆弧柱面与所述第二圆弧柱面的半径相同。
10.根据权利要求9所述的离子源室，其特征在于，所述第一圆弧柱面与所述第二圆弧柱面为同心圆弧柱面。
11.根据权利要求10所述的离子源室，其特征在于，所述第一圆弧柱面的半径值为35mm～50mm。
12.一种设备，其特征在于，所述设备包括如权利要求1～11中任一项所述的离子源室。
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