[实用新型]环抛机伺服自摆机构有效

专利信息
申请号: 201921637117.5 申请日: 2019-09-29
公开(公告)号: CN210938671U 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 张习兵;邹德明 申请(专利权)人: 无锡市锡斌光电设备有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B53/00
代理公司: 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 代理人: 张铁兰
地址: 214000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 环抛机 伺服 机构
【说明书】:

实用新型公开了一种环抛机伺服自摆机构。包括工件环机构、校正盘机构;所述工件环机构、校正盘机构设置在环抛机机体上;工件环卡钳座设置在机体上,工件环卡钳座上可转动地设置有工件环摆幅调整机构,工件环摆幅调整机构上可伸缩地设置有工件卡钳,工件卡钳上设置有辅助旋转机构、工件环,辅助旋转机构带动工件环转动;校正盘卡钳座设置在机体上,校正盘卡钳座上可转动地设置有校正盘摆幅调整机构,校正盘摆幅调整机构上可伸缩地设置有校正盘卡钳,校正盘卡钳上设置有转动机构、校正盘,转动机构带动校正盘转动;通过改变工件环、校正盘的摆幅,改变工件环、校正盘的运动轨迹,增加了抛光盘上的工作面积,提高了抛光盘面形保持的时间。

技术领域:

本实用新型属于环抛机生产技术领域,特别涉及一种环抛机伺服自摆机构。

背景技术:

现有的环抛机工件运动轨迹固定单一,只与抛光盘固定区域接触摩擦,环抛机使用一段时间后,抛光盘上与工件接触的区域会逐渐损耗,造成抛光盘上未与工件接触的区域逐渐凸起,破坏抛光盘的面形,不利于控制抛光盘面形。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容:

本实用新型的目的在于提供一种环抛机伺服自摆机构,从而克服上述现有技术中的缺陷。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种环抛机伺服自摆机构,包括:工件环机构、校正盘机构;所述工件环机构、校正盘机构设置在环抛机机体上;所述工件环机构包括辅助旋转机构、工件卡钳、工件环摆幅调整机构、工件环、工件环卡钳座,工件环卡钳座设置在机体上,工件环卡钳座上可转动地设置有工件环摆幅调整机构,工件环摆幅调整机构上可伸缩地设置有工件卡钳,工件卡钳上设置有辅助旋转机构、工件环,辅助旋转机构带动工件环转动;所述校正盘机构包括转动机构、校正盘卡钳、校正盘摆幅调整机构、校正盘、校正盘卡钳座,校正盘卡钳座设置在机体上,校正盘卡钳座上可转动地设置有校正盘摆幅调整机构,校正盘摆幅调整机构上可伸缩地设置有校正盘卡钳,校正盘卡钳上设置有转动机构、校正盘,转动机构带动校正盘转动;通过改变工件环、校正盘的摆幅,改变工件环、校正盘的运动轨迹,使抛光盘的工作面积增加,有利于抛光盘面形的保持。

优选地,技术方案中,辅助旋转机构包括主动轮电机、主动轮、被动轮、保护轮臂、保护轮,工件卡钳上设置有主动轮电机、被动轮、保护轮臂,主动轮电机输出端与主动轮连接,保护轮臂末端设置有保护轮,主动轮、被动轮、保护轮分别与工件环接触。

优选地,技术方案中,工件环摆幅调整机构包括调整座、伺服电机、导轨、滑块,调整座与工件环卡钳座通过螺纹连接,调整座可在工件环卡钳座上做迥转运动,调整座上设置有伺服电机、导轨,导轨上设置有滑块,伺服电机与滑块连接,滑块上设置有工件卡钳,通过伺服电机带动滑块进行伸缩运动,进而改变工件环的摆幅。

优选地,技术方案中,转动机构包括校正盘主动轮电机、校正盘主动轮、校正盘被动轮、校正盘保护轮臂、校正盘保护轮,校正盘卡钳上设置有校正盘主动轮电机、校正盘被动轮、校正盘保护轮臂,校正盘主动轮电机输出端与校正盘主动轮连接,校正盘保护轮臂末端设置有校正盘保护轮,校正盘主动轮、校正盘被动轮、校正盘保护轮分别与校正盘接触。

优选地,技术方案中,校正盘摆幅调整机构包括摆幅调整座、摆幅伺服电机、摆幅导轨、摆幅滑块、翻转轴,摆幅调整座与校正盘卡钳座通过螺纹连接,摆幅调整座可在校正盘卡钳座上做迥转运动,摆幅调整座上设置有摆幅伺服电机、摆幅导轨,摆幅导轨上设置有摆幅滑块,摆幅伺服电机与摆幅滑块连接,摆幅滑块上设置有翻转轴,校正盘卡钳通过翻转轴与摆幅滑块连接,通过摆幅伺服电机带动摆幅滑块进行伸缩运动,进而改变校正盘的摆幅。

优选地,技术方案中,调整座、摆幅调整座上分别设置有废液管,用于将导轨、摆幅导轨内的废油、废水排出。

与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:

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