[实用新型]掩膜装置

说明书

本实用新型涉及显示面板曝光技术领域，公开了一种掩膜装置，解决了无需取下掩膜架，则可实现掩膜板的直接更换。本实用新型包括：掩膜架，设有用于吸附待加工件的真空吸附孔；框架，与所述掩膜架转动连接，使所述掩膜架在所述框架内翻转。本实用新型利用掩膜架与框架的转动连接，可使掩膜架直接在框架上实现翻转，则在更换待加工件时，无需将掩膜架取下，只要翻转掩膜架，即可在框架上对待加工件进行更换，不仅简化了待加工件更换的操作流程，同时还可避免对掩膜架造成污染，避免了影响成品质量，从而提高了成品合格率。

技术领域

本实用新型涉及显示面板曝光技术领域，特别是一种掩膜装置。

背景技术

掩膜板也称为光掩膜板或光罩，是光刻工艺中不可或缺的一个部件。在生产过程中，曝光设备需要搭载掩膜板，对光线产生规则遮挡以保留有效曝光区域的光刻胶，从而在玻璃基板表面形成特定图案。在此过程中，需要对掩膜装置的掩膜工位进行变动，在目前的工序中，所用的方式是通过人工将掩膜架从框架上取下并对掩膜板进行重新更换，在此过程中，掩膜装置可能会与外界接触，因此容易出现二次污染，使成品的合格率降低，增加生产成本。

发明内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种掩膜装置，无需取下掩膜架，则可实现掩膜板的直接更换。

根据本实用新型的第一方面实施例的掩膜装置，包括：

掩膜架，设有用于吸附待加工件的真空吸附孔；

框架，与所述掩膜架转动连接，使所述掩膜架在所述框架内翻转。

根据本实用新型实施例的掩膜装置，至少具有如下有益效果：利用掩膜架与框架的转动连接，可使掩膜架直接在框架上实现翻转，则在更换待加工件时，无需将掩膜架取下，只要翻转掩膜架，即可在框架上对待加工件进行更换，不仅简化了待加工件更换的操作流程，同时还可避免对掩膜架造成污染，避免了影响成品质量，从而提高了成品合格率。

根据本实用新型的一些实施例，所述掩膜架的侧面设有转轴，所述框架的侧面设有与所述转轴对应的转轴孔，所述转轴插设在对应的所述转轴孔内，并与所述框架转动连接。利用转轴与框架转动连接，可实现掩膜架的翻转，便于调整掩膜架的位置，实现待加工件的替换。

根据本实用新型的一些实施例，所述转轴设于所述掩膜架的中部。设于中部，可实现掩膜架以自转的方式在框架内上下翻转。

根据本实用新型的一些实施例，所述真空吸附孔设有至少一个以上并设于所述掩膜架的表面，所述掩膜架的内部设有腔体且与所述真空吸附孔连通，所述腔体与所述转轴连通。采用真空吸附孔对待加工件实现吸附和固定，可避免因采用固定件进行固定而对待加工件造成磨损或损坏的情况。

根据本实用新型的一些实施例，还包括真空泵，所述真空泵通过真空管与所述转轴转动连接且连通，所述转轴为中空结构并与所述真空吸附孔连通。采用真空泵，可以使真空吸附孔形成真空，对待加工件实现吸附。

根据本实用新型的一些实施例，还包括第一驱动件，所述第一驱动件与所述转轴驱动连接，驱动所述转轴转动。利用第一驱动件，可实现掩膜架自动翻转，提高待加工件更换的效率。

根据本实用新型的一些实施例，所述框架上设有插销，所述掩膜架上设有与所述插销相匹配的销孔。利用插销和销孔可对掩膜架的位置进行限位，避免在掩膜架会在曝光过程中出现转动或晃动，从而保证待加工件的安全和成品质量。

根据本实用新型的一些实施例，所述框架上设有可限制所述掩膜架转动的限位机构。利用限位机构，可以避免在掩膜架会在曝光过程中出现转动或晃动，从而保证待加工件的安全和成品质量，同时还可提高整体的加工效率。