[实用新型]一种移动式蒸镀装置

说明书

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种移动式蒸镀装置，其特征在于：所述移动式蒸镀装置包括坩埚及轴向移动装置，所述坩埚内由上至下设有蒸镀材料层及加热层，所述轴向移动装置与所述坩埚相连带动所述坩埚沿所述轴向移动装置的轴向位移至各个待镀膜区域并依据蒸镀材料层到各个所述待镀膜区域的距离控制所述轴向移动装置的暂停时间。本实用新型的优点是：结构简单，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高基板局部膜厚的均匀性；基板整体膜厚均匀性高。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种移动式蒸镀装置。

背景技术

真空蒸发镀膜的基本原理是将镀膜材料放置在处于真空条件下的蒸镀装置内，通过控制蒸发的温度，使得镀膜材料中的其他物质（溶酶）与镀膜材料分离，熔化后的蒸镀材料形成由分子、原子或原子团组成的蒸汽，蒸汽中的气体分子或原子沉积到待镀膜基板上形成膜层，从而形成器件的功能层。随着经济的发展和生活水平的提高，目前，真空蒸发镀膜工艺在模具、医疗器械、装饰品、平板显示、太阳能利用、光学仪器等许多领域内都被广泛应用。

膜厚的均匀性一定程度上决定了产品的品质，由于蒸发源到基片上的距离各不相同，如何有效改善膜厚均匀性成为急需解决的技术点。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种移动式蒸镀装置，依据蒸发源到基板上各个待镀膜区域的距离控制轴向移动装置的移动及暂停，提高基板整体膜厚的均匀性。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种移动式蒸镀装置，用于对基板上各个待镀膜区域进行镀膜，其特征在于：所述移动式蒸镀装置包括坩埚及轴向移动装置，所述坩埚内由上至下设有蒸镀材料层及加热层，所述轴向移动装置与所述坩埚相连带动所述坩埚沿所述轴向移动装置的轴向位移至各个待镀膜区域并依据蒸镀材料层到各个所述待镀膜区域的距离控制所述轴向移动装置的暂停时间。

所述加热层采用加热丝，所述加热丝设置为与所述坩埚形状相适配的环状。

所述坩埚的顶部盖设有开孔板，所述开孔板上布置有若干蒸发孔，所述蒸镀材料层位于所述加热丝与所述开孔板之间。

所述轴向移动装置包括丝杆及驱动机构，所述丝杆与所述驱动机构相连，所述驱动机构驱动所述丝杆移动或暂停。

所述丝杆连接在所述坩埚的底面。

本实用新型的优点是：结构简单，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高基板局部膜厚的均匀性；基板整体膜厚均匀性高。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中加热丝、坩埚及丝杆的平面示意图

图3为本实用中开孔板的结构图。

具体实施方式

以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：

如图1-3所示，图中标记1-5分别表示为：坩埚1、开孔板2、加热丝3、丝杆4、蒸发孔5。

实施例：本实施例为一种移动式蒸镀装置，在开孔板2上分布有若干个大小一致的蒸发孔5，随着坩埚1内温度的升高，坩埚1内的气压仍能保持平稳，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔5处向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高膜厚的均匀性；由于蒸发源到基板上各点的距离各不相同，依据蒸发源到基板的各点的距离控制丝杆4带动坩埚1位移，进一步提高膜厚均匀性，

如图1所示，该移动式蒸镀装置主体包括坩埚1及轴向移动装置。