[实用新型]一种薄片类介质处理装置

权利要求书

1.一种薄片类介质处理装置，所述薄片类介质处理装置上设有用于输送薄片类介质的输送通道(11)，其特征在于，所述薄片类介质处理装置包括用于检测所述薄片类介质是否发生歪斜的检测机构，所述检测机构设置于所述输送通道(11)，所述检测机构包括沿所述输送通道(11)的宽度方向隔设置的第一传感器(2)和第二传感器(3)，所述第一传感器(2)包括第一光发生器(21)和第一光接收器(22)，所述第二传感器(3)包括第二光发生器(31)和第二光接收器(32)，所述第一光接收器(22)用于接收所述第一光发生器(21)发出的光信号，所述第二光接收器(32)用于接收所述第二光发生器(31)发出的光信号；

沿所述输送通道(11)的宽度方向，所述输送通道(11)包括间隔设置的第一端和第二端，所述第一光接收器(22)相对所述第一光发生器(21)靠近所述第一端，所述第二光接收器(32)相对所述第二光发生器(31)靠近所述第二端。

2.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，沿所述输送通道(11)的宽度方向，所述第一光接收器(22)、所述第一光发生器(21)、所述第二光发生器(31)和所述第二光接收器(32)依次间隔设置。

3.根据权利要求2所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一光接收器(22)与所述第一光发生器(21)之间的距离等于所述第二光发生器(31)与所述第二光接收器(32)之间的距离。

4.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述薄片类介质处理装置还包括相对设置的第一通道板(12)和第二通道板(13)，所述第一通道板(12)和所述第二通道板(13)形成所述输送通道(11)，所述第一光接收器(22)、所述第一光发生器(21)、所述第二光发生器(31)和所述第二光接收器(32)均设置于所述第一通道板(12)。

5.根据权利要求4所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述检测机构还包括沿所述输送通道(11)的宽度方向间隔设置的第一导光体(4)和第二导光体(5)，所述第一导光体(4)和所述第二导光体(5)均设置于所述第二通道板(13)，所述第一光发生器(21)、所述第一导光体(4)和所述第一光接收器(22)之间形成第一光路，所述第二光发生器(31)、所述第二导光体(5)和所述第二光接收器(32)之间形成第二光路。

6.根据权利要求5所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一导光体(4)包括第一光线入射端(41)和第一光线出射端(42)，所述第二导光体(5)包括第二光线入射端(51)和第二光线出射端(52)，所述第一光发生器(21)与所述第一光线入射端(41)相对设置，所述第一光接收器(22)与所述第一光线出射端(42)相对设置，所述第二光发生器(31)与所述第二光线入射端(51)相对设置，所述第二光接收器(32)与所述第二光线出射端(52)相对设置。

7.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一光发生器(21)和所述第二光发生器(31)之间的距离小于所述薄片类介质的宽度。

8.根据权利要求1-7任一项所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一光发生器(21)具有第一出光面，所述第一光接收器(22)具有第一入光面，所述第二光发生器(31)具有第二出光面，所述第二光接收器(32)具有第二入光面，所述第一入光面的面积小于所述第一出光面的面积，所述第二入光面的面积小于所述第二出光面的面积。

9.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述薄片类介质处理设备还包括打印头(6)，沿所述薄片类介质在所述输送通道(11)中的输送方向，所述打印头(6)位于所述检测机构的下游。

10.根据权利要求9所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述薄片类介质处理设备还包括纠偏机构(7)，沿所述薄片类介质在所述输送通道(11)中的输送方向，所述纠偏机构(7)位于所述检测机构的上游，且所述纠偏机构(7)与所述检测机构之间的距离小于或等于所述薄片类介质的长度。