[实用新型]评价晶片清洗效率的实验装置有效

专利信息
申请号: 201921260992.6 申请日: 2019-08-06
公开(公告)号: CN211206291U 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 刘子龙;胡怀志;冉运;朱顺全 申请(专利权)人: 武汉鼎泽新材料技术有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
主分类号: G01N21/94 分类号: G01N21/94;G01Q60/24;H01L21/67;H01L21/683
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430057 湖北省武汉市经*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 评价 晶片 清洗 效率 实验 装置
【权利要求书】:

1.一种评价晶片清洗效率的实验装置,其特征在于,包括:

支架,设置在所述支架上的真空吸附晶片样品并带动晶片样品旋转的真空旋转装置,以及设置在所述支架上的将粘染物溶液或清洗液注射至晶片样品表面的注射装置。

2.如权利要求1所述的评价晶片清洗效率的实验装置,其特征在于,所述真空旋转装置包括表面开有真空槽的真空吸盘、控制旋转电机带动真空吸盘转动的旋转控制器、以及经真空气管与真空槽底部连通的真空泵。

3.如权利要求2所述的评价晶片清洗效率的实验装置,其特征在于,所述真空吸盘位于屏蔽罩中,所述屏蔽罩顶面设有玻璃罩。

4.如权利要求1所述的评价晶片清洗效率的实验装置,其特征在于,所述注射装置包括注射器以及带动注射器的活塞杆运动的加压推动装置,所述注射器的针头为非金属材料。

5.如权利要求4所述的评价晶片清洗效率的实验装置,其特征在于,所述加压推动装置为连接有步进控制器的丝杆式步进电机或伸缩式气缸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉鼎泽新材料技术有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司,未经武汉鼎泽新材料技术有限公司;湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921260992.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top