[实用新型]清洁装置及干法刻蚀设备

权利要求书

1.一种清洁装置，用于清洁一静电吸盘的表面，其特征在于，包括：

传送单元；以及

设置于所述传送单元一端的可旋转式清洁单元；

其中，所述传送单元被配置为，非工作状态时，处于折叠状态，工作状态时，处于展开状态，将所述可旋转式清洁单元运送到所述静电吸盘的上方。

2.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述可旋转式清洁单元被配置为，非工作状态时，处于收缩状态，工作状态时，沿平行于所述静电吸盘的方向展开。

3.如权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述可旋转式清洁单元包括驱动部和设置在所述驱动部上的若干刷头，所述刷头在所述驱动部的驱动下向远离所述驱动部的方向展开及做旋转运动。

4.如权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述刷头的数量为多个，多个所述刷头围绕所述驱动部的轴线均匀分布。

5.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括设置于所述可旋转式清洁单元上的清洁液喷洒单元，所述清洁液喷洒单元被配置为，在所述可旋转式清洁单元对所述静电吸盘进行清洁时，向所述静电吸盘喷洒清洁液。

6.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括一承载腔室，所述传送单元处于非工作状态时，所述承载腔室能够容纳所述传送单元和所述可旋转式清洁单元。

7.如权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述承载腔室包括盘体和盖体，所述承载腔室被配置为，在所述传送单元要进入工作状态时，所述盖体打开；所述可旋转式清洁单元在所述传送单元的带动下，经由所述腔室的顶部对准所述静电吸盘。

8.一种干法刻蚀设备，其特征在于，包括：

用于承载晶圆的静电吸盘；

用于承载所述静电吸盘的悬臂；以及

一如权利要求1～7中任一项所述的清洁装置。

9.如权利要求8所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述干法刻蚀设备还包括一刻蚀腔室，所述静电吸盘、所述悬臂以及所述清洁装置均设于所述刻蚀腔室内。

10.如权利要求8所述的干法刻蚀设备，其特征在于，所述干法刻蚀设备还包括一支撑部，所述悬臂以及所述清洁装置均固定在所述支撑部上。