[实用新型]一种检测窗口的保护装置及一种化学气相沉积机台

说明书

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种检测窗口的保护装置及一种化学气相沉积机台，一对检测窗口设置于连接反应腔室的一气体传输管道的两侧，在反应腔室启动一清洁程序时，一检测装置通过一对检测窗口检测反应腔室内的气体浓度，一对检测窗口包括一第一检测窗口和一第二检测窗口；保护装置用于将两个检测窗口与气体传输管道内的气体隔离，保护装置包括：一第一隔离阀，设置于第一检测窗口与气体传输管道之间；一第二隔离阀，设置于第二检测窗口与气体传输管道之间。有益效果：使用两个隔离阀可以使两个检测窗口完全隔离反应气体，避免在不执行清洁程序时反应气体附着在检测窗口的表面，提高检测窗口的使用寿命，以及提高清洁的效果。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种检测窗口的保护装置及一种化学气相沉积机台。

背景技术

WCVD(Wolfram Chemical Vapor Deposition，钨化学气相沉积)反应腔室钨膜的厚度累积到一定程度后，需要执行清洁程序去除反应腔室内沉积的钨膜。在现有的清理程序中，如图1所示，通过与反应腔室1连通的气体传输管道2将反应腔室1内的反应气体抽走，通过在气体传输管道2上设置两个透明材质的检测窗口(图1所示201和202)，检测装置通过两个检测窗口对气体传输管道内的反应气体浓度进行检测。检测装置包括红外线发射器30和红外线接收器31，红外线发射器30发射红外线，红外线透过第一检测窗口201和第二检测窗口202并穿过气体传输管道2内的反应气体到达红外线接收器31，红外线接收器31通过红外线光谱分析反应气体中WF6(六氟化钨)的浓度判断反应腔室1内的钨膜是否清理干净。

在现有技术中，如图1所示，由于检测窗口和气体传输管道2是连通的，反应腔室1内的反应气体通过气体传输管道2抽走，一部分反应气体会附着在检测窗口上，影响检测窗口的清晰度，红外线透过检测窗口的强度会变弱，影响检测装置的检测精度，从而影响清洁的效果，同时，还会缩短检测窗口的寿命。

发明内容

针对现有技术中存在的上述问题，现提供一种检测窗口的保护装置及一种化学气相沉积机台。

具体技术方案如下：

本实用新型包括一种检测窗口的保护装置，一对所述检测窗口设置于连接反应腔室的一气体传输管道的两侧，在所述反应腔室启动一清洁程序时，一检测装置通过一对所述检测窗口检测所述反应腔室内的气体浓度，一对所述检测窗口包括一第一检测窗口和一第二检测窗口；

所述保护装置用于将两个所述检测窗口与所述气体传输管道内的气体隔离，所述保护装置包括：

一第一隔离阀，设置于所述第一检测窗口与所述气体传输管道之间；

一第二隔离阀，设置于所述第二检测窗口与所述气体传输管道之间。

优选的，所述气体传输管道包括一第一检测通道，所述第一检测通道设置于所述气体传输管道的一侧，并与所述气体传输管道连通；

所述第一隔离阀设置于所述第一检测通道内，所述第一隔离阀在进行所述清洁程序时自动开启，在所述清洁程序结束时自动关闭，以将所述第一检测窗口与所述气体传输管道隔离。

优选的，所述气体传输管道还包括一第二检测通道，所述第二检测通道设置于所述气体传输管道的另一侧，并与所述气体传输管道连通；

所述第二隔离阀设置于所述第二检测通道内，所述第二隔离阀在进行所述清洁程序时自动开启，在所述清洁程序结束时自动关闭，以将所述第二检测窗口与所述气体传输管道隔离。

优选的，所述第一隔离阀和所述第二隔离阀为气动隔离阀。

优选的，所述检测装置包括：

一红外线发射器，设置于所述第一检测窗口的外侧并与所述第一检测窗口对应；