[实用新型]基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导有效

专利信息
申请号: 201920905137.X 申请日: 2019-06-17
公开(公告)号: CN209784584U 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 魏一振;杨培培;张卓鹏;陈达如 申请(专利权)人: 杭州光粒科技有限公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00;G02B6/34;G02B27/01
代理公司: 33272 杭州奥创知识产权代理有限公司 代理人: 王佳健
地址: 310052 浙江省杭州市滨*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 刻蚀 周期结构 光栅 刻蚀区域 超结构 浮雕 本实用新型 周期性单元 线性增加 周期单元 聚合物 波导 基板 眼镜 垂直激光 工艺难度 金属模板 深度维持 涂覆 压膜 垂直 引入 生产
【说明书】:

本实用新型涉及一种基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导。该AR眼镜波导由基于超结构浮雕光栅通过金属模板压膜而成,所述的超结构浮雕光栅包括基板和涂覆在基板上的聚合物,所述的聚合物上形成有多个由垂直激光刻蚀而成的周期性单元,每个周期性单元中包括多个小周期结构,每个小周期结构中未刻蚀区域宽度为a,刻蚀区域宽度为b,刻蚀区域的深度为Hi;其中Hi先线性增加,后保持一个常数。本实用新型通过引入小周期结构,采用半个大周期单元内,小周期结构刻蚀深度线性增加,另外半个大周期单元内,小周期结构内刻蚀深度维持不变。所有刻蚀采用垂直刻蚀,没有斜角度刻蚀,避免了斜角度刻蚀的工艺难度,便于大批量生产,也减少成本等优点。

技术领域

本实用新型涉及增强现实技术领域,尤其涉及一种基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导。

背景技术

随着虚拟现实和增强现实的技术逐渐被人们认识和接受,波导耦合光栅得到了快速的发展,该领域的专家也提出了各种各样的光栅结构,比如微软的Hololens提出了倾斜光栅的设计来将光耦合到波导中进行全反射传输。利用传统光学元件将虚拟图像耦合进入人眼的方式已经被采用,包括棱镜、半透半反镜片、自由曲面波导、镜面阵列波导、衍射波导等。衍射波导显示技术是利用衍射光栅实现光线的入射、转折和出射,利用全反射原理实现光线传输,将微显示器的图像传导至人眼,而外界的真实景象可以通过普通的玻璃镜片透射进入人眼,进而看到虚拟图像。

由于采用的光波导全反射原理,因此对于设计出的AR眼镜可以像普通眼镜一样轻薄透明,方便携带,也可以做大规模的生产。

对于目前提出的耦合光栅大部分是带有一定倾斜角的光栅,这种光栅的好处就是能使在一定偏角范围的光被耦合到波导中,也可以通过多层不同的倾角的光栅叠加在一起来实现增大视场角。但是,这种倾斜光栅的制作工艺难度较大,对刻蚀的要求很高,不大容易实现,成本也相对的比较高。

发明内容

针对上述现有技术中存在的缺陷,本实用新型提出了基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导。

本实用新型由基于超结构浮雕光栅通过金属模板压膜而成,所述的超结构浮雕光栅包括基板和涂覆在基板上的聚合物,所述的聚合物上形成有多个由垂直激光刻蚀而成的周期性单元,每个周期性单元中包括多个小周期结构,每个小周期结构中未刻蚀区域宽度为a,刻蚀区域宽度为b,刻蚀区域的深度为Hi;其中Hi先线性增加,后保持一个常数。

进一步说,未刻蚀区域宽度a的数值范围10-50nm,刻蚀区域宽度b的数值范围10-50nm,刻蚀区域的深度Hi数值范围10-1000nm。

进一步说,在半个周期性单元内,小周期结构刻蚀区域的深度线性增加;在另外半个周期性单元内,小周期结构刻蚀区域的深度维持不变。

本实用新型在传统浮雕光栅大约200-800nm的周期结构中,引入周期20-100nm的精细结构,该小周期结构对应的刻蚀深度符合一定的调制要求;采用在半个周期性单元内小周期结构刻蚀深度线性增加,在另外半个周期性单元内,小周期结构刻蚀深度维持不变。所有刻蚀采用垂直刻蚀,没有斜角度刻蚀,避免了斜角度刻蚀的工艺难度,便于大批量生产,也减少成本等优点。

附图说明

图1为本实用新型中所涉及的超结构浮雕光栅结构图。

图2为实施例中对不同角度光的耦合效率图。

具体实施方式

基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导,该AR眼镜波导由基于超结构浮雕光栅通过金属模板压膜而成,即AR眼镜波导聚合物的结构与超结构浮雕光栅聚合物的结构成镜像,所述的超结构浮雕光栅包括基板和涂覆在基板上的聚合物,所述的聚合物上形成有多个由垂直激光刻蚀而成的周期性单元,每个周期性单元中包括多个小周期结构,每个小周期结构中未刻蚀区域宽度为a,刻蚀区域宽度为b,刻蚀区域的深度为Hi;其中Hi先线性增加,后保持一个常数,见图1。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州光粒科技有限公司,未经杭州光粒科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920905137.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top