[实用新型]基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导有效
| 申请号： | 201920905137.X | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN209784584U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 魏一振;杨培培;张卓鹏;陈达如 | 申请（专利权）人： | 杭州光粒科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;G02B6/34;G02B27/01 |
| 代理公司： | 33272 杭州奥创知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王佳健 |
| 地址： | 310052 浙江省杭州市滨*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀 周期结构 光栅 刻蚀区域 超结构 浮雕 本实用新型 周期性单元 线性增加 周期单元 聚合物 波导 基板 眼镜 垂直激光 工艺难度 金属模板 深度维持 涂覆 压膜 垂直 引入 生产 | ||
【权利要求书】：
1.基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导，该AR眼镜波导由基于超结构浮雕光栅通过金属模板压膜而成，其特征在于：
所述的超结构浮雕光栅包括基板和涂覆在基板上的聚合物，所述的聚合物上形成有多个由垂直激光刻蚀而成的周期性单元，每个周期性单元中包括多个小周期结构，每个小周期结构中未刻蚀区域宽度为a，刻蚀区域宽度为b，刻蚀区域的深度为Hi；其中Hi先线性增加，后保持一个常数。
2.根据权利要求1所述的基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导，其特征在于：未刻蚀区域宽度a的数值范围10-50nm，刻蚀区域宽度b的数值范围10-50nm，刻蚀区域的深度Hi数值范围10-1000nm。
3.根据权利要求1或2所述的基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导，其特征在于：在半个周期性单元内，小周期结构刻蚀区域的深度线性增加；在另外半个周期性单元内，小周期结构刻蚀区域的深度维持不变。
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