[实用新型]一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统有效
| 申请号: | 201920897168.5 | 申请日: | 2019-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN210287521U | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
| 发明(设计)人: | 杨福年;郑锡文 | 申请(专利权)人: | 东莞市和域战士纳米科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/455 |
| 代理公司: | 东莞市启信展华知识产权代理事务所(普通合伙) 44579 | 代理人: | 冯蓉 |
| 地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 新型 pecvd 等离子 设备 智能 药水 配比 系统 | ||
1.一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:包括
一个PECVD等离子设备真空仓体(1),该PECVD等离子设备真空仓体(1)的两个侧壁面上设置有多个接口;
两个第一药水蒸发罐(2),均分别通过两条第一药水管道(201)相接于PECVD等离子设备真空仓体(1)的两个侧壁面上的两个第一接口(101);
一个第二药水蒸发罐(3),该第二药水蒸发罐(3)通过两条第二药水管道(301)相接于PECVD等离子设备真空仓体(1)的两个侧壁面上的两个第二接口(102);
一真空泵组(4),该真空泵组(4)通过两条抽真空管路(401)分别相接于PECVD等离子设备真空仓体(1)的第三接口(103);该两条抽真空管路(401)分别与第三接口(103)相接位置设有真空角阀(402),且两条抽真空管路(401)汇合成总管相接真空泵组(4),该总管上设置有碟阀(403)。
2.根据权利要求1所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:多个接口分为两组,左右对称地分布在PECVD等离子设备真空仓体(1)的左右两侧。
3.根据权利要求2所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:所述第一接口(101)位于下侧,第二接口(102)位于上侧,第三接口(103)位于第一接口(101)与第二接口(102)之间。
4.根据权利要求2所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:所述第一药水蒸发罐(2)与第二药水蒸发罐(3)之间有高度差,该第一药水蒸发罐(2)低于第二药水蒸发罐(3)。
5.根据权利要求4所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:所述第一药水蒸发罐(2)为液态反应物汽化罐,所述第一药水蒸发罐(2)为固态原料熔融后汽化或直接升华罐。
6.根据权利要求5所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:所述第一药水蒸发罐(2)和第二药水蒸发罐(3)均分别设有加热保温装置。
7.根据权利要求1所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:所述第一药水蒸发罐(2)中,其用于与第一药水管道(201)相接的气化出口位于第一药水蒸发罐(2)的上侧;所述第二药水蒸发罐(3)中,其用于与第二药水管道(301)相接的气化出口位于第二药水蒸发罐(3)的上侧。
8.根据权利要求7所述的一种新型PECVD等离子设备智能药水配比系统,其特征在于:所述第一药水管道(201)和第二药水管道(301)上均设置流量控制阀(302)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





