[实用新型]一种辅助阳极装置有效
| 申请号: | 201920805168.8 | 申请日: | 2019-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN210765490U | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
| 发明(设计)人: | 李立升;林海天;岑洪师 | 申请(专利权)人: | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 东莞市奥丰知识产权代理事务所(普通合伙) 44424 | 代理人: | 田小红 |
| 地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 辅助 阳极 装置 | ||
本实用新型提供一种辅助阳极装置,包括安装在真空腔体内的阴极板、以及安装在阴极板上的辅助阳极组件;阴极板上设有第一圆孔以及在第一圆孔周围均匀分布有若干个溅射源;辅助阳极组件包括支撑座、锁紧件、冷却水面板、冷却水管道和接线柱;支撑座和锁紧件为绝缘材料;支撑座伸入阴极板的第一圆孔内;支撑座的上端设有支撑在第一圆孔上端的凸环;支撑座中心具有供冷却水管道穿过的第二圆孔;冷却水面板放置在支撑座上端;冷却水面板上具有进水口和出水口;冷却水管道安装在冷却水面板下方且穿过第二圆孔;接线柱固定在冷却水面板上端;锁紧件顶压在冷却水面板上端面的周边且通过螺丝锁紧在阴极板上;体现出本实用新型镀膜更加均匀。
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备领域,特别涉及一种辅助阳极装置。
背景技术
辅助阳极是通过改变放电空间内的电场分布情况实现对放电空间内的等离子体性能进行改进,而磁控溅射具有诸多优点的同时,也存在沉积速率低、靶面刻蚀不均与靶材利用率低等缺点;辅助阳极技术是镀膜过程中获得高离化率的有效方法之一,因此可以在一定程度上克服上述缺陷;但是以往的辅助阳极是安装在真空腔的一侧,导致粒子运动的轨迹不均匀,从而工件各位置所镀的薄膜也并不够均匀,因此还需进行改进。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种镀膜均匀的辅助阳极装置。
为了实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种辅助阳极装置,包括安装在真空腔体内的阴极板、以及安装在阴极板上的辅助阳极组件;所述阴极板上设有第一圆孔以及在第一圆孔周围均匀分布有若干个溅射源;所述辅助阳极组件包括支撑座、锁紧件、冷却水面板、冷却水管道和接线柱;所述支撑座和锁紧件为绝缘材料;所述支撑座伸入阴极板的第一圆孔内;所述支撑座的上端设有支撑在第一圆孔上端的凸环;所述支撑座中心具有供冷却水管道穿过的第二圆孔;所述冷却水面板放置在支撑座上端;所述冷却水面板上具有进水口和出水口;所述冷却水管道安装在冷却水面板下方且穿过第二圆孔;所述接线柱固定在冷却水面板上端;所述锁紧件顶压在冷却水面板上端面的周边且通过螺丝锁紧在阴极板上。
对本实用新型的进一步描述,所述进水口设置两个,出水口设置一个;两个所述进水口对称设置在出水口两侧;所述冷却水管道包括外管、内管、支撑架和底板;所述外管安装在冷却水面板下方且与两个所述进水口连通;所述内管设置在外管内且固定在面板的出水口下方;所述内管的底部与外管连通;所述支撑架为“十”字型固定在内管下端;所述底板固定在外管底部。
对本实用新型的进一步描述,所述外管上端外壁与冷却水面板之间设有第一密封圈;所述内管上端与冷却水面板连接位置处设有第二密封圈;所述支撑架与内管之间设有第三密封圈;所述外管与底板之间设有第四密封圈。
对本实用新型的进一步描述,所述溅射源设置四个。
本实用新型的有益效果为:
本实用新型通过将辅助阳极组件安装在阴极板的第一圆孔位置处,溅射源则均匀分布在第一圆孔四周,因此给辅助阳极装置加上电压后,溅射源中的阴极离子体中的电子会被电势更高的阳极吸引聚集,具有电中性的电子在聚集的运动轨迹加长获得的能量增加,运动过程中再次电离中性粒子,大大提升了腔体内的粒子离化率,增强了电场强度,增加粒子对产品膜层的附着力,而电子的运动分布更加均匀,从而工件上所镀的膜层也更加均匀。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构图;
图2是本实用新型使用状态的俯视图;
图3是本实用新型支撑座的结构图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行进一步说明:
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