[实用新型]一种锗单晶位错检测装置有效

专利信息
申请号: 201920720297.7 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN210803066U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 王卿伟;陈仕天;郭友林;柯尊斌;陆海凤 申请(专利权)人: 中锗科技有限公司
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32;G01N1/34;G01N21/95
代理公司: 南京新慧恒诚知识产权代理有限公司 32424 代理人: 李晓静
地址: 211200 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 锗单晶位错 检测 装置
【权利要求书】:

1.一种锗单晶位错检测装置,其特征在于:包括工作台(1)、活动夹具(2)、反应箱(3)、第一清洗箱(4)、第二清洗箱(5)和显微镜(6),所述工作台(1)上设置有安装架(7),所述安装架(7)的上端下表面设置有安装板(8),所述安装板(8)的表面设置有横向的滑轨,所述活动夹具(2)包括液压缸(9)、安装座(10)和收缩夹(11),所述液压缸(9)安装于安装座(10)上,所述安装座(10)与安装板(8)上的滑轨活动连接,所述收缩夹(11)与液压缸(9)的伸缩端出固定连接,所述反应箱(3)安装于工作台(1)的一端且位于安装架(7)内部,所述反应箱(3)的内部设置有检测液,所述第一清洗箱(4)安装于靠近反应箱(3)的一侧,所述第一清洗箱(4)的内部设置有无水乙醇,所述第二清洗箱(5)安装于靠近第一清洗箱(4)且远离反应箱(3)的一侧,所述第二清洗箱(5)的内部设置有清水,所述显微镜(6)安装于工作台(1)远离反应箱(3)的一端且位于安装架(7)外部。

2.根据权利要求1所述的一种锗单晶位错检测装置,其特征在于:所述安装座(10)上设置有纵向的滑轨,所述液压缸(9)与安装座(10)上的纵向滑轨活动连接。

3.根据权利要求1所述的一种锗单晶位错检测装置,其特征在于:所述反应箱(3)的一侧设置有入料管道(12),且入料管道(12)与反应箱(3)之间设置有一定斜角,所述反应箱(3)内的检测液为铁氰化钾腐蚀液。

4.根据权利要求1所述的一种锗单晶位错检测装置,其特征在于:所述反应箱(3)内的检测液高度和入料管道(12)与反应箱(3)连接处的上口水平位置一致,且入料管道(12)的进口处下口水平位置高于检测液高度。

5.根据权利要求1所述的一种锗单晶位错检测装置,其特征在于:所述液压缸(9)的伸缩端和收缩夹(11)的表面均涂有防腐蚀涂层以及防锈涂层。

6.根据权利要求1所述的一种锗单晶位错检测装置,其特征在于:所述显微镜(6)为一种金相显微镜,且与电脑数据线连接。

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