[实用新型]废气处理装置有效

专利信息
申请号: 201920627960.9 申请日: 2019-05-05
公开(公告)号: CN209997409U 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 汪涛 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: B01D53/00 分类号: B01D53/00;F28G1/00
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 胡彬
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 热量交换 废气处理装置 冷凝模块 刮擦部 本实用新型 冷凝腔室 壳体 废气 固体颗粒出口 环境保护技术 固体颗粒物 二次污染 内部设置 平行设置 气体出口 气体入口 冷凝 冷凝腔 室内部 刮擦 外周 连通 平行 凝结 保证
【说明书】:

本实用新型公开了一种废气处理装置,属于环境保护技术领域。该废气处理装置包括壳体,其内部设置有冷凝腔室,壳体还设置有与冷凝腔室连通的气体入口、气体出口和固体颗粒出口;冷凝模块,其包括多根平行设置于冷凝腔室内部的热量交换管路;刮擦组件,其包括套设于热量交换管路外周的刮擦部,刮擦部能沿热量交换管路往复运动。本实用新型通过设置冷凝模块对废气中的有毒物质进行冷凝,其中冷凝模块通过采用多根相互平行的热量交换管路,使得对应设置的刮擦部可直接沿热量交换管路往复移动,从而将凝结在热量交换管路上的固体颗粒物清除,保证了废气处理装置可长期处于正常的工作状态,实现了对废气进行处理的同时不存在二次污染。

技术领域

本实用新型涉及环境保护技术领域,尤其涉及一种废气处理装置。

背景技术

半导体工业废气含有多种有毒物质如:砷烷、磷烷、氯化氢、氨、二氧化硫、三氧化硫、一氧化氮、二氧化氮等。金属有机化学气相沉积是目前半导体工业中常用工艺,同时该工艺产生了大量存在有毒物质的废气。所以,半导体工业生产设备都需要设置废气处理装置将有毒气体净化后排入大气。

目前用于在半导体制造工业中的废气处理装置主要有三种类型:1)间接燃烧湿式废气处理装置;2)湿式废气处理装置;3)直接燃烧湿式废气处理装置。发明人在实施过程中发现上述的传统半导体废气处理装置存在如下各种问题。

1、对废气进行燃烧处理过程中,整体设备的净化效率受燃烧器的燃烧效率影响较大。

2、在燃烧半导体废气之后形成大量固体灰尘以及颗粒物沉积在底部或吸附在内壁上,致使内部气流通道阻塞,造成废气处理效率降低。

3、传统半导体工业废气处理装置需使用大量的水资源,易造成二次污染以及需要大量的资源和成本处理有毒废水。

为此,亟需提供一种废气处理装置以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种废气处理装置,对废气进行处理的同时不存在二次污染。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种废气处理装置,包括:

壳体,其内部设置有冷凝腔室,所述壳体还设置有与冷凝腔室连通的气体入口、气体出口和固体颗粒出口;

冷凝模块,其包括多根平行设置于所述冷凝腔室内部的热量交换管路;

刮擦组件,其包括套设于所述热量交换管路外周的刮擦部,所述刮擦部能沿所述热量交换管路往复运动。

作为优选,所述刮擦组件还包括:

驱动机构,其能进行直线运动,所述驱动机构位于所述热量交换管路的一端;

主动磁体,其设置于所述热量交换管路内部,且所述主动磁体与所述驱动机构的驱动端连接;

所述刮擦部具有磁性,所述刮擦部由所述主动磁体驱动能沿所述热量交换管路往复移动。

作为优选,所述刮擦组件还包括连接套管,所述连接套管的一端与所述驱动机构的驱动端连接,另一端所述主动磁体连接,所述连接套管配置为能移入或移出所述热量交换管路以带动所述主动磁体在所述热量交换管路中往复移动。

作为优选,所述连接套管呈中空结构的圆柱体,所述圆柱体外壁设置有镂空结构。

作为优选,所述镂空结构包括设置于所述连接套管侧壁上的多个长条孔。

作为优选,所述热量交换管路分为第一热量交换管路和第二热量交换管路,所述第一热量交换管路的入口位于所述壳体的一侧,所述第二热量交换管路的入口位于所述壳体的另一侧,所述第一热量交换管路的出口和所述第二热量交换管路的入口连通。

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