[实用新型]一种高氟废水深度处理装置

权利要求书

1.一种高氟废水深度处理装置，其特征在于：包括反应装置和沉降装置；

其中，所述反应装置包括筒体，顶盖，椭球形底部，搅拌电机和搅拌桨，所述顶盖设置在所述筒体顶部，所述椭球形底部与所述筒体底部密封连接，所述搅拌电机设置在所述顶盖上部中心位置，所述搅拌桨上部穿过所述顶盖中心与所述搅拌电机连接；所述顶盖上设有酸液进口、药剂投加口、第一进水口、备用进液口，排风口，所述椭球形底部中心位置设有向下突出的第一出液口；

所述沉降装置为立方体形状，沿所述沉降装置左侧壁为进水端，相对一侧的右侧壁为出水端，所述左侧壁上设置有第二进水口，所述第二进水口设置在所述沉降装置高度的1/3～2/3处，所述右侧壁设置有第二出液口，所述沉降装置底部设置有两两相对的沉泥板，所述沉泥板为矩形，且沉泥板底边平行于所述沉降装置的左侧壁；两两相对的沉泥板与沉降装置的前后侧壁形成上宽下窄的污泥沉降缓存区，所述污泥沉降缓存区的底部在所述沉降装置的侧壁上设置有排泥口，所述污泥沉降缓存区上方设置有相互倾斜布置的人字形的沉淀导向斜板，所述沉淀导向斜板通过所述沉淀装置内侧的斜板支撑固定在所述沉淀装置内；靠近沉降装置右侧壁设置溢流半管，所述溢流半管与所述沉降装置的右侧壁平行设置，所述溢流半管高度低于所述沉降装置的侧壁高度，侧壁上设有第二溢流口，所述第二溢流口与所述溢流半管相联通，所述反应装置的第一出液口与所述沉降装置的第二进水口管道连接。

2.根据权利要求1所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述反应装置的侧壁上还设有pH接口和温度口。

3.根据权利要求2所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述反应装置侧壁上设有第一液位计口，第二液位计口，所述第一液位计口设置在所述第二液位计口的上方。

4.根据权利要求3所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述反应装置的侧壁上设有第一溢流口。

5.根据权利要求4所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述反应装置为多个，通过支耳设置在操作平台上。

6.根据权利要求5所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述沉泥板的高度不高于所述第二进水口下缘。

7.根据权利要求6所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述沉降装置靠近第二进水口位置上设有配水板。

8.根据权利要求7中所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述沉降装置靠近右侧壁的前后侧壁上分别相对应设有弧形托架，所述弧形托架用于固定溢流半管。

9.根据权利要求8所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述沉降装置的出水端侧壁上设置有第三液位计口、第四液位计口，所述第三液位计口和第四液位计口均高于所述第二出液口。

10.根据权利要求9所述的高氟废水深度处理装置，其特征在于：所述人字形沉淀导向斜板为若干个，沿竖直方向平行设置于所述污泥沉降缓存区上方。