[实用新型]清洁装置有效
| 申请号： | 201920414811.4 | 申请日： | 2019-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN209935363U | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 潘东林;高英哲;张文福;刘家桦;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B5/02;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洁设备 待清洁部件 侧壁开口 顶部开口 气体喷头 清洁装置 驱动部件 溶液喷头 侧壁 晶圆 清洁 移动单元控制 本实用新型 移动单元 良率 污染 | ||
1.一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：
第一清洁设备，所述第一清洁设备包括第一箱体及与所述第一箱体相连接的驱动部件；
所述第一箱体包括顶部开口，所述第一箱体的侧壁上设置有至少一个溶液喷头及至少一个气体喷头；所述驱动部件包括至少两个移动单元，通过所述移动单元控制所述第一箱体的位移；通过所述第一清洁设备清洁自所述顶部开口进入的第一待清洁部件；
第二清洁设备，所述第二清洁设备包括第二箱体，所述第二箱体的顶部上设置有至少一个溶液喷头及至少一个气体喷头，所述第二箱体的侧壁具有侧壁开口；通过所述第二清洁设备清洁自所述侧壁开口进入的第二待清洁部件。
2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述溶液喷头包括纳米雾化喷头。
3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述溶液喷头包括纯水溶液喷头、超纯水溶液喷头及去离子水溶液喷头中的一种或组合。
4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述气体喷头包括氮气喷头及惰性气体喷头中的一种或组合。
5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述溶液喷头及气体喷头分别等间距分布。
6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述移动单元包括马达、气缸及伸缩杆中的一种或组合。
7.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述驱动部件还包括旋转单元。
8.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述清洁装置还包括排液部件，所述排液部件与所述第一箱体及第二箱体相连接。
9.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述清洁装置还包括控制器，所述控制器与所述第一清洁设备及第二清洁设备电连接。
10.根据权利要求1～9中任一所述的清洁装置，其特征在于：所述清洁装置包括应用于清洁半导体设备中的机械手臂的清洁装置。
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