[发明专利]量子点发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911423750.9 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN113130837B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 雷卉;刘文勇;杨一行 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 张禹
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 发光二极管 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种量子点发光二极管的制备方法,包括以下步骤:提供底电极基板,在所述底电极基板的底电极表面形成第一纳米柱结构;在所述第一纳米柱结构表面结合含有初始配体的量子点,采用目标配体对所述表面结合有初始配体的量子点进行配体交换,制备得到结合有目标配体的量子点薄膜。本发明提供的量子点发光二极管的制备方法,可以得到兼具良好的分散性和电荷注入传输能力的量子点薄膜。

技术领域

本发明属于显示技术领域,尤其涉及一种量子点发光二极管及其制备方法。

背景技术

量子点电致发光器件(QLED)因其低启亮电压、窄发光峰、发光波长可调等优势,展示出了巨大的应用潜力。QLED采用三明治结构,包括阳极和阴极,以及在阳极和阴极之间设置的量子点发光层。目前,QLED通常包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和阴极。其中,量子点发光层的制备尤其重要。

在现有的QLED中,电子和空穴由注入层提供,经过传输层,最后在量子点发光层进行复合发光。典型的量子点结构,由核、外壳(单层或多层)、链状配体构成,电子和空穴最终在量子点核内进行复合发光。由于量子点容易发生团聚现象,因此,目前采的长链配体来有效防止量子点聚集沉降。但也因为长链配体链长较长,导致量子点的电荷注入能力和传输能力仍然有待提高。而短链配体可有效提高电子和空穴的注入和传输能力,但容易导致量子点聚集沉降。

发明内容

本发明的目的在于提供一种量子点发光二极管及其制备方法,旨在解决量子点难以兼顾良好的分散性和电荷注入传输能力的问题。

为实现上述发明目的,本发明采用的技术方案如下:

本发明第一方面提供一种量子点发光二极管的制备方法,包括以下步骤:

提供底电极基板,在所述底电极基板的底电极表面形成第一纳米柱结构;

在所述第一纳米柱结构表面结合含有初始配体的量子点,提供目标配体与所述量子点表面的初始配体进行交换,制备得到结合有目标配体的量子点薄膜;

其中,量子点的直径标记为d,相邻的第一纳米柱之间的间距标记为l1,第一纳米柱的高度标记为h,第一纳米柱的最大径向尺寸标记为s1,相邻的三个所述第一纳米柱的共同外接圆的半径标记为r1

本发明第二方面提供一种量子点发光二极管,包括相对设置的阳极和阴极,以及设置在所述阳极和所述阴极之间的量子点薄膜,其中,所述阳极或所述阴极的表面设置第一纳米柱结构,且所述量子点薄膜与所述第一纳米柱结构接触的表面与所述第一纳米柱结构互补,所述量子点薄膜的另一表面为平整表面;其中,将量子点的直径标记为d,相邻的第一纳米柱之间的间距标记为l1,第一纳米柱的高度标记为h,第一纳米柱的最大径向尺寸标记为s1,相邻的三个所述第一纳米柱的共同外接圆的半径标记为r1

本发明提供的量子点发光二极管的制备方法,先在底电极基板的底电极表面形成第一纳米柱结构;然后在所述第一纳米柱结构表面结合含有初始配体的量子点,结合有初始配体的量子点进入第一纳米柱结构的孔隙中,通过控制第一纳米柱结构之间的间距宽度和纳米柱的尺寸,使得至少量子点能够以单颗粒的形式排列,可以减少量子点聚集沉降,提高了量子点的分散性能和稳定性;最后,采用目标配体对表面结合有初始配体的量子点进行配体交换,在量子点表面结合能够提高电荷注入能力和传输能力的目标配体,最终得到能够兼具良好的分散性和电荷注入传输能力的量子点薄膜。此外,该方法操作简单,成本低廉。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL科技集团股份有限公司,未经TCL科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911423750.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top