[发明专利]化学气相沉积设备流场均匀控制的方法

权利要求书

1.化学气相沉积设备流场均匀控制的方法，化学气相沉积设备包括沉积炉，其特征在于：包括以下步骤：

（1）以沉积炉的竖向中心线为轴线，沿着沉积炉的周向将沉积炉的内腔划分出多个呈扇形的控制区域，将每个控制空间沿着沉积炉的高度方向划分出多个控制空间，在每个控制空间对应的沉积炉的炉壁区域上开设进料口并在内表面安装流量传感器和搅拌叶；

（2）采集各控制空间内的流量传感器检测到的各控制空间的实际流量值并传送给计算机；

（3）计算机将各控制空间的实际流量值与各控制空间的理论流量值一一进行对比，计算出各控制空间的实际流量值与各控制空间的理论流量值之间的差值；

（4）根据得到的各控制空间的实际流量值与各控制空间的理论流量值之间的差值对各控制空间进行流量补偿；

还包括数字孪生设备，所述数字孪生设备包括与各控制空间内的流量传感器连接的实时数据采集传输模块，实时数据采集传输模块的信号输出端分别通过数据孪生服务器、模型数据库与计算机连接，计算机的控制信号输出端通过控制总线连接现场控制设备。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备流场均匀控制的方法，其特征在于：所述流量传感器包括三氯甲基硅烷流量传感器、氢气流量传感器和氩气流量传感器。