[发明专利]光刻胶分配模块、涂敷系统及在晶圆上旋涂光刻胶的方法

权利要求书

1.一种光刻胶分配模块，用于将光刻胶溶液分配到晶圆上，其特征在于，包括：

第一喷嘴，配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的第一部分；

第二喷嘴，配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的第二部分；以及

光刻胶管道组件，联接至所述第一喷嘴及所述第二喷嘴，并且配置成向所述第一喷嘴及所述第二喷嘴供应所述光刻胶溶液。

2.如权利要求1所述的光刻胶分配模块，其特征在于，所述光刻胶管道组件包括：

第一管道，联接至所述第一喷嘴，并且配置成向所述第一喷嘴供应所述光刻胶溶液；以及

第二管道，联接至所述第二喷嘴，并且配置成向所述第二喷嘴供应所述光刻胶溶液。

3.如权利要求2所述的光刻胶分配模块，其特征在于，还包括分配臂组件，所述分配臂组件联接至所述光刻胶管道组件以移动所述第一喷嘴和所述第二喷嘴，其中，所述分配臂组件包括联接至所述第一管道的第一臂，以及联接至所述第二管道的第二臂。

4.如权利要求3所述的光刻胶分配模块，其特征在于，还包括包围所述光刻胶管道组件的套筒组件，其中，所述套筒组件包括包围所述第一管道的第一套筒以及包围所述第二管道的第二套筒。

5.如权利要求1所述的光刻胶分配模块，其特征在于，所述第一喷嘴配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的中心部分，所述第二喷嘴配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的边缘部分。

6.一种光刻胶涂敷系统，用于将光刻胶溶液涂敷到晶圆上，其特征在于，包括：

旋杯，配置成容纳所述晶圆；

夹盘，配置成定位所述晶圆；以及

光刻胶分配模块，配置成将所述光刻胶溶液分配到所述晶圆上，所述光刻胶分配模块包括：

第一喷嘴，配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的第一部分；

第二喷嘴，配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的第二部分；以及

光刻胶管道组件，联接至所述第一喷嘴和所述第二喷嘴，并且配置成向所述第一喷嘴和所述第二喷嘴供应所述光刻胶溶液。

7.如权利要求6所述的光刻胶涂敷系统，其特征在于，所述光刻胶分配模块的所述光刻胶管道组件包括：

第一管道，联接至所述第一喷嘴，并且配置成向所述第一喷嘴供应所述光刻胶溶液；

第二管道，联接至所述第二喷嘴，并且配置成向所述第二喷嘴供应所述光刻胶溶液；以及

分配臂组件，所述分配臂组件联接至所述光刻胶管道组件以移动所述第一喷嘴和所述第二喷嘴，所述分配臂组件包括联接至所述第一管道的第一臂，以及联接至所述第二管道的第二臂。

8.如权利要求6所述的光刻胶涂敷系统，其特征在于，所述光刻胶分配模块的所述第一喷嘴配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的中心部分，所述光刻胶分配模块的所述第二喷嘴配置成将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的边缘部分。

9.一种在晶圆上旋涂光刻胶溶液的方法，其特征在于，包括：

将所述晶圆装载到光刻胶涂敷系统上，其中，所述光刻胶涂敷系统包括配置成容纳所述晶圆的旋杯，配置成定位所述晶圆的夹盘，以及配置成将所述光刻胶溶液分配到所述晶圆上的光刻胶分配模块，其中所述光刻胶分配模块包括第一喷嘴和第二喷嘴；

通过所述第一喷嘴将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的第一部分，并且通过所述第二喷嘴将所述光刻胶溶液分配给所述晶圆的第二部分；以及

旋转所述晶圆以在所述晶圆的表面上分散所述光刻胶溶液。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，当将所述晶圆加载到所述光刻胶涂敷系统后，所述方法还包括：

从稀释剂模块分配稀释剂溶液以冲洗所述晶圆；以及

将所述光刻胶分配模块的所述第一喷嘴和所述第二喷嘴移动到所述晶圆上方的预定位置；

清洗形成在所述晶圆的斜面和背面处的边缘球状物；以及

从所述光刻胶涂敷系统中卸载所述晶圆。