[发明专利]一种石墨烯薄膜的加工方法

权利要求书

1.一种石墨烯薄膜的加工方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

1)利用氧化石墨烯原料制备氧化石墨烯薄膜；

2)准备表面具有图案的模板，包括：先用激光刻蚀制作图案硅片，再用所述图案硅片倒模制作硅胶模板，并对所述硅胶模板进行表面亲水处理，所述图案的精细尺度为10-100μm；

3)用水润湿所述模板的图案表面，将所述氧化石墨烯薄膜贴附于所述模板的图案表面并铺展成型，晾干以形成具有图案化空心结构的氧化石墨烯薄膜；

4)用还原液处理所述步骤3)得到的具有图案化空心结构的氧化石墨烯薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1)中制备氧化石墨烯薄膜的步骤包括：将氧化石墨烯分散液在滤膜上抽滤成氧化石墨烯薄膜。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧化石墨烯分散液中氧化石墨烯的片径为2-50μm；或所述氧化石墨烯薄膜的厚度为8-12μm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图案的刻蚀深度为20-50μm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图案为沟槽状或方坑状。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面亲水处理的步骤包括：使用等离子清洗仪处理至少60s。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤4)中用还原液处理氧化石墨烯薄膜的步骤包括：将还原液以100-150μl/cm²的用量涂覆在所述氧化石墨烯薄膜的表面，避光静置。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤4)中还原液包括体积比为1:1～1:3的47％碘化氢溶液和无水乙醇。

9.一种具有图案化空心结构的石墨烯薄膜材料，采用如权利要求1-8任一所述方法制备获得。