[发明专利]下电极及化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种下电极，包括基座、设置于所述基座上的承载板以及镀在所述承载板表面的阳极膜；

其中，所述阳极膜包括第一区域以及包围所述第一区域设置的第二区域，所述第一区域的表面粗糙度为第一粗糙度，所述第二区域的表面粗糙度为第二粗糙度，所述第一粗糙度大于所述第二粗糙度，所述承载板用于承载玻璃基板，且所述玻璃基板的四角位于所述第二区域；

其中，所述承载板用于承载玻璃基板，所述玻璃基板的四角位于所述第二区域，用于改善所述玻璃基板下表面边缘刮伤的现象；

所述第一区域包括至少一个倒角区域，所述第二区域的外轮廓为矩形，所述矩形的顶点与所述倒角区域的最短距离为第一距离，所述矩形的直线边与所述第一区域的最短距离为第二距离，所述第一距离大于所述第二距离；所述第一距离的长度为35～100mm，所述第二距离的长度为5～30mm。

2.根据权利要求1所述的下电极，其特征在于，所述第一粗糙度为15～25um。

3.根据权利要求1所述的下电极，其特征在于，所述第二粗糙度为5～10um。

4.根据权利要求1所述的下电极，其特征在于，所述阳极膜的材料为氧化铝。

5.根据权利要求1所述的下电极，其特征在于，所述阳极膜的厚度为10～20um。

6.根据权利要求5所述的下电极，其特征在于，所述倒角区域的轮廓为直线倒角或圆倒角。

7.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括真空腔、遮蔽框、扩散板、上电极和如权利要求1～6任意一项所述的下电极。