[发明专利]一种CI复合导电体及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201911221367.5 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN111383792A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 丁梓兴 申请(专利权)人: 深圳市金中瑞通讯技术有限公司
主分类号: H01B5/00 分类号: H01B5/00;H01B13/00;H05K9/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 518000 广东省深圳市龙华新区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 ci 复合 导电 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种CI复合导电体,其特征在于,所述复合导电体包括导电框体结构,所述导电框体为中空结构,所述中空结构内部设置有软金属层。

2.根据权利要求1所述的复合导电体,其特征在于,所述软金属层部分或完全填充于所述中空结构;

优选地,所述软金属层的厚度为0.01~2mm。

3.根据权利要求1或2所述的复合导电体,其特征在于,所述导电框体至少含有两个中空结构,所述中空结构内部分别独立地设置有软金属层。

4.根据权利要求1-3任一项所述的复合导电体,其特征在于,所述导电框体的材料为导电材料;

优选地,所述导电材料包括石墨烯、金、银、铅或镍中的任意一种或至少两种的组合。

5.根据要求1-4任一项所述的复合导电体,其特征在于,所述软金属层的材料为软金属材料;

所述软金属材料包括软银、软铝、软铁或软铜中的任意一种或至少两种的组合。

6.一种权利要求1-5任一项所述的CI复合导电体的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

使用成型工艺将所述导电材料制备成具有中空结构的导电框体,将软金属材料复合到所述中空结构中,得到所述复合导电体。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述成型工艺为冲压成型。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述冲压成型的温度为20~40℃;

优选地,所述冲压成型的压力为1~2个大气压。

9.根据权利要求6-8任一项所述的制备方法,其特征在于,所述复合的方法为冷热喷涂复合或热压成型复合。

10.一种权利要求1-5任一项所述的CI复合导电体的应用,其特征在于,所述复合导电体应用于航空航天、航海制造以及汽车制造领域。

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