[发明专利]框架一体型掩模的制造方法及框架一体型掩模的掩模分离/替换方法有效

专利信息
申请号: 201911173364.9 申请日: 2019-11-26
公开(公告)号: CN111218644B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 李炳一;张泽龙 申请(专利权)人: TGO科技株式会社
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 框架 体型 制造 方法 分离 替换
【说明书】:

发明涉及框架一体型掩模的制造方法及框架一体型掩模的掩模分离/替换方法。本发明涉及框架一体型掩模的制造方法,该框架一体型掩模由多个掩模和用于支撑掩模的框架一体形成,该方法包括:(a)准备模板上粘合有掩模的掩模支撑模板的步骤,掩模上形成有多个掩模图案;(b)将包括具有多个掩模单元区域的框架的工艺区域的温度上升至第一温度的步骤;(c)将模板装载在框架上并将掩模对应至框架的掩模单元区域的步骤;(d)将掩模附着在框架上的步骤;(e)反复步骤(c)至步骤(d)将掩模附着至框架的所有掩模单元区域的步骤;(f)将包括框架的工艺区域的温度下降至第二温度的步骤。

技术领域

本发明涉及一种框架一体型掩模的制造方法及框架一体型掩模的掩模分离/替换方法。更具体地,涉及一种使掩模不发生变形且可稳定地得到支撑并移动,可准确地在各掩模间进行对准(align),在从框架上分离替换掩模的过程中能够防止框架的变形的框架一体型掩模的制造方法及框架一体型掩模的掩模分离/替换方法。

背景技术

作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术,主要使用FMM(FineMetal Mask,精细金属掩模)方法,该方法将薄膜形式的金属掩模(Shadow Mask,阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。

在现有的OLED制造工艺中,将掩模制造成条状、板状等后,将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具备与一个显示器对应的多个单元。另外,为了制造大面积OLED,可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架,在固定于框架的过程中,拉伸各个掩模,以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是,为了使各个单元全部变得平坦,同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案,需要微调施加到掩模各侧的拉伸力并且实时确认对准状态的高度作业要求。

尽管如此,在将多个掩模固定于一个框架过程中,仍然存在掩模之间以及掩模单元之间对准不好的问题。另外,在将掩模焊接固定于框架的过程中,掩模膜的厚度过薄且面积大,因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题;由于焊接过程中在焊接部分产生的皱纹、毛刺(burr)等,导致掩模单元的对准不准的问题等。

在超高清的OLED中,现有的QHD画质为500-600PPI(pixel per inch,每英寸像素),像素的尺寸达到约30-50μm,而4K UHD、8K UHD高清具有比之更高的~860PPI,~1600PPI等的分辨率。如此,考虑到超高清的OLED的像素尺寸,需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm左右,超出这一误差将导致产品的不良,所以收率可能极低。因此,需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对准精确的技术,以及将掩模固定于框架的技术等。

另外,部分掩模没有准确对准地固定或者掩模中发生缺陷时,需要将掩模分离,但是在分离及替换焊接的掩模的过程中,存在打乱其他掩模的对准的问题。

发明内容

技术问题

因此,本发明为了解决如上所述的现有技术的各种问题而提出的,其目的在于,提供一种可使掩模不发生变形且稳定地得到支撑并移动,而且可防止掩模发生下垂或者扭曲等变形,并可准确地对准的框架一体型掩模的制造方法。

此外,本发明的目的在于提供一种可显著地减少制造时间,并显著地提升收率的框架一体型掩模的制造方法。

此外,本发明的目的在于,提供一种在掩模和框架形成一体型结构的框架一体型掩模中可防止框架的扭曲等变形,且能够分离及替换掩模以使掩膜准确地对准的框架一体型掩模的掩模分离/替换方法。

技术方案

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