[发明专利]一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法有效
| 申请号： | 201911167157.2 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN110879433B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 晋云霞;孔钒宇;何冬兵;邵建达;曹红超;张益彬;王勇禄;陈俊明;孙勇;徐姣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光热 折变 玻璃 反射 光栅 制备 方法 | ||
1.一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，其特征在于，该制备方法包含以下步骤：
(a)将待曝光的光热折变玻璃(1)的表面进行抛光，使曝光入射面(2)和出射面(3)的表面均方根粗糙度RMS均小于1nm；
(b)双束紫外平行光(4,5)形成的干涉条纹(7)从入射面(2)照射至光热折变玻璃(1)上，干涉条纹(7)周期Λ＝λ使/2nav，曝光角度θ＝arcsin(navλ曝/λ使)，其中λ曝为紫外平行光的波长，λ使为反射式体光栅的使用波长，nav为光热折变玻璃(1)的平均折射率，θ是双束紫外平行光(4,5)分别与法线(6)的夹角；
(c)保持双束紫外平行光(4,5)和光热折变玻璃(1)的位置，使干涉条纹(7)在光热折变玻璃(1)内部保持3分钟至30分钟左右，且光热折变玻璃(1)的折射率发生周期性变化，其周期与干涉条纹(7)周期一致，至此紫外曝光过程结束；
(d)将曝光后的光热折变玻璃(1)放置于高温炉中，采用450-550℃的温度对玻璃进行热显影，恒温时间30分钟至240分钟；
(e)将热显影后的光热折变玻璃沿垂直于曝光入射面方向切割成一定厚度的小块成为反射式体光栅(8)，该反射式体光栅(8)的两个切割面(9，10)即为通光面，且两个通光面的夹角小于1′；
(f)对切割面(9,10)抛光处理，使切割面(9,10)的表面均方根粗糙度RMS均小于1nm，并对其他面进行打毛处理；
(g)在切割面(9，10)上镀制全介质减反射膜，确保反射式体光栅的使用波长λ使的透过率大于99.5％。
2.根据权利要求1所述的基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，其特征在于，所述的反射式体光栅(8)的厚度在0.3～30毫米范围内变化，实现对光谱半高宽在1nm～0.02nm范围内进行调控。
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