[发明专利]一种减小土壤有机质对多环芳烃荧光工作曲线影响的校正方法有效
| 申请号： | 201911125100.6 | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110987883B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 李晓童;柳春雨;张婧;杨仁杰;董桂梅;杨延荣;李博文;赵晨 | 申请（专利权）人： | 天津农学院 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/49 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 张博 |
| 地址： | 300384 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 减小 土壤有机质 芳烃 荧光 工作 曲线 影响 校正 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种减小土壤有机质对多环芳烃荧光工作曲线影响的校正方法，其特征在于：包括如下步骤：
步骤1：制备多个不同浓度多环芳烃、不同浓度腐殖酸的土壤样品；
步骤2：根据步骤1中不同浓度多环芳烃、不同浓度腐殖酸的土壤样品，建立相应多环芳烃浓度矩阵C；
步骤3：扫描步骤1中制备的每个土壤样品相应的荧光谱和紫外-可见漫反射光谱,得到每个土壤样品的荧光谱和紫外-可见漫反射光谱；
步骤4：对于步骤3中的荧光谱，选定用于建立定量分析多环芳烃工作曲线的荧光谱带A；
步骤5：对于步骤3中的紫外-可见漫反射光谱，选定用于校正工作曲线的紫外-可见漫反射光谱波长范围；
步骤6：对步骤5中所选择的紫外-可见漫反射光谱波长范围的光谱曲线进行积分，得到相应的积分矩阵D；
步骤7：对步骤6中得到的积分矩阵D进行二次方根计算，得到对应的二次方根矩阵E；
步骤8：对步骤7中得到的二次方根矩阵进行e次幂计算，得到对应的修正矩阵M；
步骤9：提取步骤4中定量荧光谱带M处的荧光强度，得到相应荧光强度矩阵F；
步骤10：通过步骤8中得到的修正矩阵M对步骤9中所提取的荧光强度矩阵F进行校正，即得到每个土壤样品的校正荧光强度矩阵Fc；
步骤11：根据步骤10得到的校正荧光强度矩阵Fc和步骤2中建立的多环芳烃浓度矩阵C，建立校正工作曲线。
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