[发明专利]一种光谱检测系统和光谱检测方法

权利要求书

1.一种光谱检测系统，其特征在于，包括：单色光源、待检测物、分光装置和检测装置，所述待检测物的材质为光致发光材料；

所述单色光源用于产生单色光，所述单色光激发所述待检测物产生发射光；

所述分光装置用于将所述待检测物产生的发射光进行分光；

所述检测装置用于接收经所述分光装置分光后的发射光，对所述分光后的发射光进行光谱分析，并根据所述光谱分析的结果，得到所述待检测物的性能；

所述检测装置包括发射光谱获取模块一、发射光谱获取模块二和处理模块；

所述发射光谱获取模块一用于获取未放置所述待检测物时所述单色光的发射光谱一，未放置所述待检测物时，所述单色光源发出的单色光经所述分光装置射入所述发射光谱获取模块一；

所述发射光谱获取模块二用于获取放置所述待检测物时所述分光后的发射光的发射光谱二；

所述处理模块用于根据所述发射光谱一和所述发射光谱二得到所述待检测物的性能；

所述光谱检测系统还包括聚光装置，所述聚光装置用于收集所述待检测物产生的发射光，并将所述发射光汇聚至所述分光装置，所述分光装置用于将所述聚光装置收集的发射光进行分光；

所述光谱检测系统还包括三轴平移台，所述聚光装置、所述分光装置和所述检测装置均依次设置在所述三轴平移台上，以使所述聚光装置、所述分光装置和所述检测装置均位于同一直线上；

其中，根据所述发射光谱一和所述发射光谱二得到所述待检测物的性能包括：

比较所述发射光谱一和所述发射光谱二的差异，得到所述待检测物的光子转换效率和发射光漏光率，通过所述发射光谱二得到所述待检测物的色坐标和发光亮度，通过所述三轴平移台移动所述聚光装置、所述分光装置和所述检测装置，得到所述检测装置与所述待检测物之间不同距离下的多个所述发射光谱二，通过比较多个所述发射光谱二，得到所述待检测物的发光均匀性。

2.根据权利要求1所述的光谱检测系统，其特征在于，所述单色光源包括单色光发射装置。

3.根据权利要求1所述的光谱检测系统，其特征在于，所述单色光源包括复合光发射装置和单色器，所述复合光发射装置经由所述单色器产生单色光。

4.根据权利要求1所述的光谱检测系统，其特征在于，所述待检测物的性能包括光子转换效率、发射光漏光率、色坐标、发光亮度及发光均匀性中的至少一种。

5.根据权利要求1至4任一项所述的光谱检测系统，其特征在于，所述光谱检测系统还包括光扩散装置，所述单色光源产生的单色光经由所述光扩散装置照射所述待检测物。

6.一种光谱检测方法，其特征在于，包括：

提供单色光源；

将所述单色光源产生的单色光照射待检测物，激发所述待检测物产生发射光，所述待检测物的材质为光致发光材料；

将所述发射光照射分光装置；

将经由所述分光装置分光后的发射光照射检测装置，对所述分光后的发射光进行光谱分析，并根据所述光谱分析的结果，得到所述待检测物的性能；

所述检测装置包括发射光谱获取模块一、发射光谱获取模块二和处理模块；

所述发射光谱获取模块一获取未放置所述待检测物时所述单色光的发射光谱一，未放置所述待检测物时，所述单色光源发出的单色光经所述分光装置射入所述发射光谱获取模块一；

所述发射光谱获取模块二获取放置所述待检测物时所述分光后的发射光的发射光谱二；

所述处理模块根据所述发射光谱一和所述发射光谱二得到所述待检测物的性能；

所述光谱检测系统还包括聚光装置，所述聚光装置用于收集所述待检测物产生的发射光，并将所述发射光汇聚至所述分光装置，所述分光装置用于将所述聚光装置收集的发射光进行分光；

所述光谱检测系统还包括三轴平移台，所述聚光装置、所述分光装置和所述检测装置均依次设置在所述三轴平移台上，以使所述聚光装置、所述分光装置和所述检测装置均位于同一直线上；

其中，根据所述发射光谱一和所述发射光谱二得到所述待检测物的性能包括：

比较所述发射光谱一和所述发射光谱二的差异，得到所述待检测物的光子转换效率和发射光漏光率，通过所述发射光谱二得到所述待检测物的色坐标和发光亮度，通过所述三轴平移台移动所述聚光装置、所述分光装置和所述检测装置，得到所述检测装置与所述待检测物之间不同距离下的多个所述发射光谱二，通过比较多个所述发射光谱二，得到所述待检测物的发光均匀性。