[发明专利]一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶有效
| 申请号: | 201911046706.0 | 申请日: | 2019-10-30 |
| 公开(公告)号: | CN110747433B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
| 发明(设计)人: | 闫永达;毛立阳;曹永智;耿延泉;王桐 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号: | C23C14/16 | 分类号: | C23C14/16;C23C14/35;G02B1/10 |
| 代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 高媛 |
| 地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 多面 反射 制备 金属 薄膜 异形 | ||
一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶,本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接,多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合,每个隔离圈均由两个半圆环体组成,每两个半圆环体扣合设置在支撑管上,每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接,多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置,异形靶材中部设有空腔,异形靶材的外形为柱状,异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧,水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接,异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应,镀制的薄膜均匀性可以保证,异形靶与多面共体反射镜之间无需运动,缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。
技术领域
本发明属于金属薄膜领域,具体涉及一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶。
背景技术
离轴多反成像系统是高性能全方位光电探测系统的关键器件,在国防安全、航空航天、新一代信息技术等对光电系统大视场、高分辨率有着迫切需求的领域具有广泛的应用前景。如图1所示,离轴多反成像系统由多个光学自由曲面反射镜组成。制造时,先单独加工出多个反射镜,为了增加反射率,分别在各个反射镜表面沉积增反膜,再安装、调整各反射镜的位姿从而获得符合要求的光学系统。
为了省去装调步骤,减轻重量,学者提出了多反射面一体加工的方法。如图2所示,多面共体反射镜就是依照离轴多反成像系统各反射面的位姿和形貌数据,直接将多个反射面加工在一个工件上,实现多面共体,这样省去了装调的步骤减轻了重量。但多面共体反射镜形状复杂,如何为多面共体反射镜制备高反射宽波段、均匀性好的高反射膜是一个亟需解决的问题。
高反射膜是光学薄膜的重要部分,主要运用于反射系统。高反射膜分为金属膜、介质膜系以及金属与介质共同组成的膜系,有着减少反射系统散射、提高整体反射率、保护反射镜面等诸多作用。反射镜表面高反膜的制备是反射镜制造的最终步骤,如果不能解决在多面共体反射镜表面镀制薄膜中存在的技术问题,如宽波段,均匀性,高反射等,那么将会影响整体的光学器件的工作性能。
在制备高反射膜的方法中,磁控溅射更适合镀制形状复杂的待镀表面,但现有的磁控溅射技术主要采用圆盘靶和矩形靶,由于磁控溅射视线沉积的特性,在平面或大曲率半径的曲面上制备的薄膜均匀性可以保证,但在多面共体反射镜这种待镀表面围绕中心轴离轴分布的元件上制备的薄膜均匀性差。圆柱靶虽然适用于镀制大口径管件内壁,但对于多面共体反射镜这些具有特殊内壁形状的工件,需要设计复杂的移动。而且目前没有其他薄膜沉积技术可以在多面共体反射镜上制备均匀高反膜。
发明内容
本发明的目的是为解决现有技术存在的上述问题,提供一种适用于为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶。
该异形靶为柱状,具有与多面共体反射镜相似的粒子发射表面。实际镀制中,异形靶伸入多面共体反射镜腔内进行薄膜制备。此方法无需在镀膜机中增添移动机构,而且在多面共体反射镜上制备的薄膜均匀性好。
实现上述目的,本发明采取下述技术方案:
一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶,包括靶体及异形靶材,所述靶体包括水咀座、支撑管、端盖、多个隔离圈及多个永磁铁;
所述水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接,所述多个永磁铁均为环状,且多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合,每个所述隔离圈均由两个半圆环体组成,每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接,所述多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置,所述异形靶材中部设有空腔,异形靶材的外形为柱状,异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧,水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接,异形靶材后端与端盖可拆卸连接;所述异形靶材的外周面设有多个面型,所述多个面型与预溅射的多面共体反射镜面数量相同且一一对应。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、异形靶的多个溅射面与多个反射镜一一对应,镀制的薄膜均匀性可以保证;
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