[发明专利]一种规则金字塔锥及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种纳米碗状材料修饰的复合基底，其特征在于，所述的复合基底是在规则锥表面组装了纳米碗状材料，所述的规则锥的高度为0.1～100μm，所述的纳米碗高度为0.01～10μm、碗口直径为0.01～10μm；

所述规则锥通过如下步骤制备得到：

（1）单层球组装：将胶体小球在气液界面进行自组装，得到紧密排列的单层球；

（2）单层球与硅片基底间形成氢键作用力：将步骤（1）得到的单层球转移到硅片表面，采用含有O₂的等离子气体或含有O₂的反应离子气体或紫外臭氧对胶体小球和硅片进行处理，然后用水冲洗胶体小球和硅片，在胶体小球与硅片接触部位形成氢键作用力；

（3）湿法刻蚀：将步骤（2）处理后的胶体小球和硅片置于碱性溶液中刻蚀1～50min，得到规则金字塔锥；

对步骤（3）制备得到的规则金字塔锥进行翻制，或在所述的规则金字塔锥表面进行涂层，或根据所述的规则金字塔锥压印，制备规则锥。

2.根据权利要求1所述的纳米碗状材料修饰的复合基底，其特征在于，所述的纳米碗的材料为半导体和金属中的一种或两种。

3.根据权利要求1所述的复合基底，其特征在于，在步骤（1）中，胶体小球的材料为二氧化硅、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸、聚乳酸、壳聚糖、明胶、白蛋白、淀粉或上述物质的衍生物中的一种。

4.根据权利要求1所述的复合基底，其特征在于，在步骤（3）中，所述的碱性溶液为无机碱、有机碱或其混合；所述的刻蚀温度为20～99^oC。