[发明专利]一种氧化镓生产用洗涤装置

说明书

本发明公开了一种氧化镓生产用洗涤装置，主要涉及氧化镓工艺设备领域。包括壳体模块、搅动模块、动力模块，所述搅动模块可转动的安装在壳体模块内部，所述动力模块固定在壳体模块外部，且所述动力模块用于为搅动模块提供转动动力。本发明的有益效果在于：它对应氧化镓洗涤工艺设计，能够连续高效的对沉淀物料进行洗涤。

技术领域

本发明涉及氧化镓工艺设备领域，具体是一种氧化镓生产用洗涤装置。

背景技术

氧化镓的别名是三氧化二镓，一种宽禁带半导体，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。

对于氧化镓的生产加工工艺大致介绍如下，

向三氯化镓GaCl₃的热水溶液中加NaHCO₃的高浓热水溶液，煮沸到镓的氢氧化物全部沉淀出来为止。用热水洗涤沉淀至没有Cl-为止，在600℃以上煅烧则得到β-Ga₂O₃。残留NH₄Cl时，在250℃就和Ga₂O₃反应，生成挥发性GaCl₃。

在上述工艺中，初步形成沉淀以后，要用热水对沉淀进行洗涤。由于沉淀容易结团，导致洗涤过程中物料不好分散而洗涤效果不好，且洗涤效率也较为低下。

发明内容

本发明的目的在于提供一种氧化镓生产用洗涤装置，它对应氧化镓洗涤工艺设计，能够连续高效的对沉淀物料进行洗涤。

本发明为实现上述目的，通过以下技术方案实现：

一种氧化镓生产用洗涤装置，包括壳体模块、搅动模块、动力模块，所述搅动模块可转动的安装在壳体模块内部，所述动力模块固定在壳体模块外部，且所述动力模块用于为搅动模块提供转动动力；

所述搅动模块包括主轴和轮状架，所述轮状架与主轴同轴固定，所述主轴与壳体模块可转动连接，所述轮状架沿其周侧分布有多个铲斗；

所述动力模块为使用电力驱动的传动机构，其输出端与主轴连接配合，用于使主轴具有两个转动速度，即出料速度和洗涤速度，所述出料速度大于洗涤速度；

所述壳体模块包括壳体，所述壳体的顶部设有进料口，所述壳体的底部设有接料板，所述接料板为与轮状架周侧相适应的弧形板，所述接料板上设有网孔，

所述壳体模块的一侧侧壁上设有出料通道和交换口，所述出料通道设置于交换口的上部，所述交换口上覆盖有网板，所述网板的外部设有喷淋盒，所述喷淋盒内安装高压喷淋头，所述喷淋头的喷淋方向与网板所在平面相垂直。

优选的，

所述接料板上可更换的固定有滤布；

和/或

所述网板上可更换的固定有滤布。

优选的，

所述出料通道向下倾斜设置。

所述动力模块包括电机、减速器、开式减速齿轮、驱动齿轮，所述电机的输出端与减速器通过皮带传动，所述减速器的输出端固定开式减速齿轮，所述开式减速齿轮与驱动齿轮啮合，所述驱动齿轮同轴固定在主轴上。

优选的，

所述轮状架包括相对主轴长度方向对称设置的两个环形挡板，所述环形挡板的内圈设有用于连接二者的环形底板，所述环形底板为筒状件，所述环形底板的两端边沿分别与两个环形挡板的内圈焊接，两个所述环形挡板之间沿周向均匀分布有多个隔板，所述隔板的内侧固定在环形底板上，所述隔板的外侧向着主轴转动的方向倾斜30度-60度。