[发明专利]一种UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜生产方法及其产品

说明书

本发明公开了一种UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜生产方法及其产品，过程膜包括：基材、压敏胶层和离型膜，基材至少一面经过电晕处理后，放置不少于3天；压敏胶层为UV增粘胶层，包含压敏胶层质量0.1%—5%的纳米晶珠和0.1—5%的光引发剂，涂覆于基材的电晕面上，UV后的剥离力为500—5000g/25mm；压敏胶层与离型膜的离型面进行覆合，并进行熟化。本发明生产方法得到的过程膜可以通过高温的方式，在UV增粘后粘力大幅度降低，解决了UV增粘膜在UV增粘后无法撕离的问题，使得生产过程中因贴合不良等原因需要撕离返工的问题得以解决，增加工艺过程的稳定性，同时提高了成品率和效率，应用于模组的制程过程。

技术领域

本发明涉及胶带领域，具体是涉及一种UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜生产方法及其产品。

背景技术

随着电子屏幕生产的高精度和超薄化，开发出制程膜类保护膜，如：

申请号：201810106104.9涉及保护膜技术领域，尤其是涉及一种UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法。所述UV减粘组合物主要由按重量百分比计的如下原料制成：丙烯酸酯压敏胶树脂20％-50％、多官能度低聚物和/或多官能度单体1％-30％、交联剂0.3％-2％、抗静电剂0.1％-5％、分散剂0-2％、流平剂0.2％-2％、光引发剂0.5％-5％和溶剂25％-60％。所述UV减粘膜包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层，所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物涂布于基材层表面，烘干熟化得到的。所述UV减粘组合物，具有优异的粘合力，UV照射前具有高粘合力，剥离力高，UV照射后具有低粘合力，UV剥离力低，抗静电效果好。

实用新型专利号：ZL201420369939.0涉及保护膜领域，尤其涉及一种UV减粘保护膜。该UV减粘保护膜包括PET基材层、设于PET基材层上方的UV减粘粘胶剂层以及设于UV减粘粘胶剂层上方的PET离型膜层。该UV减粘保护膜具有UV光照射前超高粘性，UV光照射后超低粘性的优良性能，降低产品的成本，并且具有较高的制程良率，在半导体晶圆切割、打磨表面保护、触控屏OGS二次强化耐酸膜等产品方面得到广泛应用。

申请号：201810105862.9涉及保护膜技术领域，尤其是涉及一种UV减粘组合物、UV减粘膜及其制备方法。所述UV减粘组合物主要由按重量百分比计的如下原料制成：丙烯酸酯压敏胶树脂20％-50％、多官能度低聚物和/或多官能度单体1％-30％、交联剂0.3％-2％、热引发剂0.1％-5％、光引发剂0.5％-5％和溶剂25％-60％。所述UV减粘膜包括依次贴合的基材层、UV减粘层和离型膜层，其中，所述UV减粘层是由所述UV减粘组合物涂布于基材层表面，烘干熟化得到的。所述UV减粘组合物，具有优异的粘合力，UV照射前具有高粘合力，剥离力高，UV照射后具有低粘合力，UV剥离力低，并且长时间储存后不留残胶。

申请号：201710242271.1提供了一种耐热型UV减粘膜，依次包括基材层、UV光敏胶黏剂层和离型膜层。还提供了一种所述UV光敏胶黏剂层的制备方法，按重量百分比计包括组分：30-50％溶剂型耐高温聚丙烯酸酯压敏胶粘剂、1-25％低分子混合添加剂、0.1-3％双官能团或多官能团特殊添加剂、0.1-1.5％光引发剂、0.5-2％硬化剂、35-60％溶剂。还提供了一种所述耐热型UV减粘膜的制备方法。本发明不仅提高了UV光敏胶黏剂对电晕PET基材的密着性和耐高温性能，且减少了底涂层处理技术，优化了产品结构。

UV增粘后可高温降粘的制程用的过程膜，在UV前粘力较低，UV后具有超高的粘力，可保证模组在加工处理过程中保持稳定、不脱落、不飞边，并保护未加工部分。若因特殊情况需要揭离，只需使其进行高温处理即可降低其粘力，易撕离。

目前市场上使用的UV增粘膜经过UV增粘后粘力很高，若出现UV后贴合缺陷等相关问题需要返工重新贴合的情况，则无法顺利撕离保护膜或撕离后出现残胶，最终导致模组出现质量问题或报废，从而影响生产效率和成本。

发明内容