[发明专利]一种改进的OPC方法和掩膜图形的制作方法

权利要求书

1.一种改进的OPC方法，包括：

获取原始版图图形；

使用标准OPC程式修正所述原始版图图形获得修正版图图形；

获取所述修正版图图形的工艺窗口；

根据所述工艺窗口，将所述修正版图图形划分为参考版图图形和缺陷版图图形；

使用特殊OPC程式修正所述缺陷版图图形，使所述缺陷版图图形的工艺窗口满足要求。

2.根据权利要求1所述的改进的OPC方法，其特征在于，获取所述修正版图图形的工艺窗口的步骤，包括：

获取所述修正版图图形在焦点处的正常图形和离焦时的离焦图形的尺寸；

获取所述正常图形和所述离焦图形的尺寸差异值。

3.根据权利要求2所述改进的OPC方法，其特征在于，所述修正版图图形划分为参考版图图形和缺陷版图图形的步骤，包括：

预设一工艺窗口阈值；

所述工艺窗口不小于所述工艺窗口阈值的所述修正版图图形为参考版图图形；

所述工艺窗口小于所述工艺窗口阈值的所述修正版图图形为缺陷版图图形。

4.根据权利要求3所述改进的OPC方法，其特征在于，还包括：

对所述缺陷版图图形进行晶圆验证，获得真实缺陷版图图形；

使用特殊OPC程式修正所述真实缺陷版图图形，使所述真实缺陷版图图形的工艺窗口满足要求。

5.根据权利要求1所述改进的OPC方法，其特征在于，所述使用特殊OPC程式修正所述缺陷版图图形，使所述缺陷版图图形的工艺窗口满足要求的步骤，包括：

使用特殊OPC程式修正所述缺陷版图图形得到特殊版图图形；

获取所述特殊版图图形的工艺窗口；

检查所述工艺窗口是否满足要求，若否，则重复以上步骤直至工艺窗口满足要求。

6.根据权利要求5所述改进的OPC方法，其特征在于，所述使用特殊OPC程式修正所述缺陷版图图形，使所述缺陷版图图形的工艺窗口满足要求的步骤，还包括：

获取所述特殊版图图形的工艺窗口；

对所述特殊版图图形的工艺窗口进行晶圆验证，获得所述特殊版图图形的真实工艺窗口；

检查所述真实工艺窗口是否满足要求，若否，则重复以上步骤直至真实工艺窗口满足要求。

7.根据权利要求1所述改进的OPC方法，其特征在于，所述使用特殊OPC程式修正所述缺陷版图图形的步骤，包括：

依据OPC环境和所述缺陷版图图形的种类，选择相应的特殊OPC程式。

8.根据权利要求7所述改进的OPC方法，其特征在于，所述选择相应的特殊OPC程式的步骤，还包括：

所述缺陷版图图形位于当层版图中；

依据所述当层版图的上层版图图形和/或下层版图图形，选择相应的特殊OPC程式。

9.根据权利要求1所述改进的OPC方法，其特征在于，包括：

所述缺陷版图图形包括对齐分布的多孔状结构。

10.根据权利要求9所述改进的OPC方法，其特征在于：

所述对齐分布的多孔状结构包括单行多孔状结构或多行多孔状结构。

11.根据权利要求10所述改进的OPC方法，其特征在于，所述特殊OPC程式包括单方向扩展OPC方法，所述单方向扩展OPC方法为对图形沿设定方向的尺寸按设定比例放大或缩小：

采用所述单方向扩展OPC方法对所述单行多孔状结构进行修正。

12.根据权利要求10所述改进的OPC方法，其特征在于，所述特殊OPC程式包括花生形改进OPC方法，所述花生形改进OPC方法包括：

在图形的边角区域，将图形的边缘向远离图形中心的方向移动；

在图形的非边角区域，将图形的边缘向靠近图形中心的方向移动。