[发明专利]激光处理设备有效
| 申请号: | 201910808993.8 | 申请日: | 2019-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN110961780B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
| 发明(设计)人: | 三宫晓史;亚历山大·乌若诺夫;金炯柱;崔银善;埃米尔·阿斯拉诺夫;韩圭完 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | B23K26/046 | 分类号: | B23K26/046;B23K26/0622;B23K26/70 |
| 代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 李强;李静波 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 处理 设备 | ||
1.一种激光处理设备,其中,所述激光处理设备包括:
光源,配置为产生激光束;以及
聚光光学系统,配置为将所述激光束在待处理对象处会聚到焦点,所述聚光光学系统包括通孔光学元件和位于所述通孔光学元件下面的复合光学元件,
其中,所述通孔光学元件在所述通孔光学元件的下表面处包括配置为凹面镜的第一凹进部,并且
其中,所述复合光学元件的上表面为凸形,并且包括配置为反射所述激光束的第一区域和配置为透射所述激光束的第二区域,其中,所述第二区域用作凸透镜。
2.根据权利要求1所述的激光处理设备,其中,
所述通孔光学元件具有穿过所述通孔光学元件的中心的通孔,并且
所述复合光学元件在所述复合光学元件的下表面处包括凹形的第二凹进部,所述第二凹进部配置为透射所述激光束。
3.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,所述聚光光学系统还包括在所述复合光学元件和所述待处理对象之间的盖子。
4.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,所述激光处理设备还包括:
位置调节光学系统,所述位置调节光学系统在所述激光束的路径上并且配置为调节所述激光束在所述待处理对象上的照射位置,
其中,所述位置调节光学系统包括第一检流计式镜和第二检流计式镜,所述第一检流计式镜配置为确定所述待处理对象上的所述焦点的沿着x轴的位置,所述第二检流计式镜配置为确定所述待处理对象上的所述焦点的沿着与所述x轴交叉的y轴的位置,并且
其中,所述位置调节光学系统还包括控制器,所述控制器配置为控制所述第一检流计式镜的位置和角度和所述第二检流计式镜的位置和角度。
5.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,所述激光处理设备还包括:
检流计式镜,所述检流计式镜配置为调节所述待处理对象上的所述焦点的沿着x轴和与所述x轴交叉的y轴两者的位置。
6.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,
所述激光束为脉冲激光束,并且
所述激光束具有飞秒的脉冲持续时间。
7.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,
所述第一区域的形状为圆形、椭圆形或多角形。
8.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,
所述待处理对象包括非活性区域和活性区域,所述激光束未到达所述非活性区域,所述激光束在所述活性区域中会聚在所述焦点处,并且
所述待处理对象被固定到能够移动的工作台。
9.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,所述复合光学元件的所述第一区域和所述第二区域的曲率大于所述第二凹进部的曲率。
10.根据权利要求2所述的激光处理设备,其中,所述复合光学元件的所述第一区域和所述第二区域的曲率小于或等于所述第二凹进部的曲率。
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