[发明专利]立体成像膜有效
| 申请号: | 201910792524.1 | 申请日: | 2019-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN112505938B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
| 发明(设计)人: | 郑伟伟;余江;申溯 | 申请(专利权)人: | 昇印光电(昆山)股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B30/26 | 分类号: | G02B30/26;G02B30/27 |
| 代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 王刚;龚敏 |
| 地址: | 215316 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 立体 成像 | ||
1.一种立体成像膜,其特征在于,包括:
聚焦层,其包括至少一个聚焦单元,所述聚焦单元包括多个微纳结构;
图文层,其包括同层的至少两个图文单元,所述图文单元包括多个微图文,所述至少两个图文单元的微图文具有不同的排布;
其中,一个所述聚焦单元与所述至少两个图文单元对应设置,且所述至少两个图文单元通过所述聚焦单元形成具有不同像高的图文影像;
一个所述微纳结构与至少两个微图文对应设置,且与同一个所述微纳结构对应设置的所述至少两个微图文具有共有部分;
所述立体成像膜所述图文层包括沟槽及填充于所述沟槽内的填充物,属于不同所述图文单元的相邻微图文具有交叉点,所述交叉点位于同一沟槽内,所述交叉点处,相邻所述微图文具有共有部分。
2.根据权利要求1所述的立体成像膜,其特征在于,在一个所述聚焦单元内,所述微纳结构呈周期排布,与其对应设置的至少两个所述图文单元的微图文也呈周期排布,且所述周期均不同。
3.根据权利要求1所述的立体成像膜,其特征在于,所述图文影像的像高为h;h>0,所述图文影像上浮;h<0,所述图文影像下沉。
4.根据权利要求1所述的立体成像膜,其特征在于,在一个所述聚焦单元内,所述微纳结构随机排布,与其对应设置的至少两个所述图文单元的微图文也随机排布。
5.根据权利要求4所述的立体成像膜,其特征在于,至少两个所述图文单元的微图文的位置坐标分别依据所述聚焦单元的微纳结构的位置坐标经过不同变换获得,所述变换包括坐标缩放变换和/或坐标旋转变换。
6.根据权利要求1所述的立体成像膜,其特征在于,在一个所述聚焦单元中,同一个所述图文单元的所述微图文颜色、形状、大小、类型相同;或,不同所述图文单元包括的所述微图文的颜色、形状、类型、大小中至少存在一种不同。
7.根据权利要求1所述的立体成像膜,其特征在于,所述立体成像膜还包括基材层和反射层,所述图文层形成于所述基材层的一侧,所述聚焦层形成于所述基材层的另一侧,所述反射层设置于所述聚焦层的远离所述图文层的一侧。
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