[发明专利]一种显示面板的制作方法在审
| 申请号: | 201910771363.8 | 申请日: | 2019-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN110620131A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
| 发明(设计)人: | 熊坤 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/00;H01L21/77 |
| 代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 黄威 |
| 地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 缓冲件 衬底 弯折区域 显示面板 基部 断路 基板 制作 剥离 | ||
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,其中所述显示面板包括显示区域和弯折区域;所述方法包括:
在至少部分第一基部上形成缓冲件;所述第一基部为位于所述弯折区域的基板;
在所述缓冲件上形成第一柔性衬底;
在所述第一柔性衬底上形成显示单元;
将所述缓冲件从所述第一柔性衬底上剥离,以使所述第一柔性衬底与所述缓冲件对应的位置形成凹槽。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述缓冲件上形成第一柔性衬底的步骤之前,所述方法还包括:
在所述缓冲件的上表面形成易剥离膜;
所述将所述缓冲件从所述第一柔性衬底上剥离的步骤包括:
将所述易剥离膜去除,以使所述缓冲件从所述第一柔性衬底上剥离。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述将所述易剥离膜去除的步骤包括:
将易剥离膜溶解或者熔化,以将所述易剥离膜去除。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述缓冲件包括至少一个缓冲部,所述凹槽的数量与所述缓冲部的数量对应。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述缓冲部的纵截面形状为长方形、三角形、半圆形、梯形以及多边形中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在至少部分第一基部上形成缓冲件的步骤包括:
在整个所述第一基部上形成缓冲件。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述第一柔性衬底上形成显示单元的步骤包括:
在所述第一柔性衬底上形成阻隔层;
在所述阻隔层上形成显示单元。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述阻隔层上形成显示单元的步骤包括:
在所述阻隔层上形成第二柔性衬底;
在所述第二柔性衬底上形成显示单元。
9.一种电子设备,其特征在于,包括控制器和存储器,所述存储器用于存储指令,所述控制器用于执行所述指令以实现如权利要求1至8任意一项所述的显示面板的制作方法。
10.一种存储介质,其特征在于,所述存储介质中存储有至少一条指令,所述指令由处理器加载并执行以实现如权利要求1至8任意一项所述的显示面板的制作方法。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





