[发明专利]一种光刻投影物镜及光刻机

说明书

本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f₁，所述第二透镜组的焦距为f₂，所述第三透镜组的焦距为f₃，f₁、f₂和f₃满足：‑4＜f2/f1＜‑1，‑0.4＜f3/f2＜‑0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种光刻投影物镜及光刻机。

背景技术

光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置，具有不同掩模图案的图形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，更低成本的需求。

现有的光刻投影物镜存在诸如数值孔径较小、分辨率低等问题，曝光视场直径与分辨率存在矛盾，无法在大的曝光视场下实现高的分辨率。

发明内容

本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。

第一方面，本发明实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f₁，所述第二透镜组的焦距为f₂，所述第三透镜组的焦距为f₃，f₁、f₂和f₃满足：

-4＜f2/f1＜-1，-0.4＜f3/f2＜-0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。

可选地，所述第一透镜组和所述第三透镜组具有正的光焦度，所述第二透镜组具有负的光焦度。

可选地，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组中的任何一个均包括至少一个非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面。

可选地，所述第一透镜组包括沿光轴顺次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜、所述第三透镜和所述第五透镜为弯月透镜，所述第四透镜为双凸透镜；

所述第二透镜组包括沿光轴顺次排列的第六透镜和第七透镜，所述第六透镜和所述第七透镜为弯月透镜；

所述第三透镜组包括沿光轴顺次排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜和第十九透镜，所述第八透镜、所述第十三透镜、所述第十七透镜和所述第十八透镜为双凹透镜，所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十五透镜、所述第十六透镜和所述第十九透镜为弯月透镜，所述第十一透镜、所述第十二透镜、所述第十四透镜为双凸透镜。

可选地，所述第一透镜、所述第二透镜、所述第七透镜、所述第九透镜、所述第十六透镜和所述第十八透镜为非球面透镜。

可选地，所述第一透镜组包括沿光轴顺次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜和第六透镜；所述第一透镜为双凹透镜，所述第二透镜、所述第三透镜和所述第四透镜为弯月透镜，所述第五透镜和所述第六透镜为双凸透镜；

所述第二透镜组包括第七透镜，所述第七透镜为弯月透镜；