[发明专利]光发射模组和电子设备

说明书

本发明实施例提供了一种光发射模组，包括基座和两个发射模块，基座包括第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面镜像对称，且第一斜面和第二斜面的延伸方向交叉，两个发射模块分别设置在第一斜面和第二斜面上，两个发射模块发射的光线在相互靠近的一侧形成部分交叉。使得光发射模组的整体的视场角增大，从而提升光发射模组的广角范围，满足大角度的需求。

技术领域

本发明属于深度成像技术领域，尤其涉及一种光发射模组和电子设备。

背景技术

深度成像技术是利用光发射模组发出光线，光线照射到目标物体上并反射，光接收模组接收反射的光线，并经过计算而得到目标物体的深度信息。深度成像技术是实现VR(Virtual Reality，即虚拟现实，简称VR)或AR(Augmented Reality，即增强现实，简称AR)的重要基础。

目前的深度成像技术中，关键的器件匀光片主要包括DOE(Diffractive OpticalElements，衍射光学组件)和ROE(Refractive Optical Elements，折射光学组件)两种方案。

DOE方案是基于光波的衍射理论，利用计算机软件设计，并通过半导体芯片制造工艺，在基片(substrate)上刻蚀产生台阶型或连续浮雕结构，通过微结构表面对透射光束进行相位调制，来控制出光强度分布调制。受限于物理限制，一般DOE较常应用在小角度的工业应用上，在大角度的表现较差，光线在较大角度处的能量极弱，无法满足应用。

ROE方案通过注塑或纳米压印在基片上构建随机或周期性的微透镜阵列，遵循几何光学的折射原理，从而得到预期照度分布的匀光器件。由于菲涅尔损耗(Fresnel Loss)，使用ROE方案制作大角度的匀光片(diffuser)，在大角度的的表现依然不够理想，无法满足需求。

发明内容

本发明的目的是提供一种光发射模组和电子设备，能够增大视场角，满足大角度的需求。

为实现本发明的目的，本发明提供了如下的技术方案：

第一方面，包括基座和两个发射模块，所述基座包括第一斜面和第二斜面，所述第一斜面和所述第二斜面镜像对称，且所述第一斜面和所述第二斜面的延伸方向交叉，两个所述发射模块分别设置在所述第一斜面和所述第二斜面上，两个所述发射模块发射的光线在相互靠近的一侧形成部分交叉。使得光发射模组的整体的视场角增大，从而提升光发射模组的广角范围，满足大角度的需求。

其中，所述基座还包括相对的第一底面和第一顶面，与所述第一底面连接且相对的第一侧面和第二侧面，所述第一斜面连接所述第一顶面和所述第一侧面，所述第二斜面连接所述第一顶面和所述第二侧面；在两个所述发射模块的连线的方向上，每个所述发射模块具有独立视场角，两个所述发射模块使所述光发射模组形成组合视场角；所述第一斜面与所述第一侧面连接形成第一交线，所述第二斜面与所述第二侧面连接形成第二交线，所述第一交线和所述第二交线连接形成参考面，所述第一斜面与所述参考面的夹角为倾斜角，所述倾斜角小于等于所述独立视场角的一半。使得两个发射模块发出的光线交叉时，光线的交叉点与光发射模组的距离位于光发射模组与目标物体之间，即目标物体能够被光线覆盖。

其中，所述发射模块包括基板、光源和匀光件，所述基板设置在所述第一斜面或所述第二斜面，所述基板设光源腔，所述光源设置在所述光源腔内，所述匀光件设置在所述基板上，且覆盖所述光源腔。光源发光，光线经匀光件的导光和匀光后出射到目标物体上，可用于实现深度成像。

其中，所述匀光件包括入光面和出光面，所述入光面与所述光源相对，所述光源发射的光线经所述入光面进入所述匀光件，所述光线从所述出光面出射；所述出光面设有包括多个微透镜的透镜阵列，所述透镜阵列用于改变所述光线出射的角度。