[发明专利]化学增幅抗蚀剂组合物和图案化方法

权利要求书

1.化学增幅抗蚀剂组合物，其包括：猝灭剂，其含有具有碘代或溴代芳环的羧酸的铵盐；和产酸剂。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中该铵盐具有式(1)或(2)：

其中R¹是氢、羟基、氟、氯、氨基、硝基或氰基，或者可被卤素取代的C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基、C₂-C₆酰氧基或C₁-C₆烷基磺酰氧基，或者-NR^1A-C(＝O)-R^1B或-NR^1A-C(＝O)-O-R^1B，其中R^1A为氢或C₁-C₆烷基，R^1B为C₁-C₆烷基或C₂-C₈烯基，

R²-R¹¹各自独立地为氢或者可含有卤素、羟基、羧基、醚键、酯键、硫醚键、硫酯键、硫羰酯键、二硫酯键、氨基、硝基、砜或二茂铁基部分的C₁-C₂₄一价烃基，R²-R⁵中的至少两个可彼此键合以形成环，R²和R³一起可形成＝C(R^2A)(R^3A)，其中R^2A和R^3A各自独立地为氢或C₁-C₁₆一价烃基，R^2A和R⁴可彼此键合以与它们结合的碳原子和氮原子形成环，该环任选地含有双键、氧原子、硫原子或氮原子，

R¹²为C₂-C₁₂烷二基，其可含有醚键、酯键、羧基部分、硫酯键、硫羰酯键或二硫酯键，

X¹为碘或溴，并且当m为至少2时可以相同或不同，

L¹为单键或者可含有醚键、羰基部分、酯键、酰胺键、磺内酯环、内酰胺环、碳酸酯键、卤素、羟基或羧基部分的C₁-C₂₀二价连接基，

m和n各自为整数，满足1≤m≤5，0≤n≤3和1≤m+n≤5。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中该产酸剂能够产生磺酸、亚氨酸或甲基化物酸。

4.根据权利要求1所述抗蚀剂组合物，其还包括基础聚合物。