[发明专利]柔性阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201910731278.9 | 申请日： | 2019-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN110544710A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 胡俊艳 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32 |
| 代理公司： | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人： | 黄威<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 绝缘层 基板 源漏电极 走线 柔性阵列 阻层 阻体 基板及显示装置 应力缓冲层 光敏胶层 阶形通孔 形通孔 一阶 | ||
1.一种柔性阵列基板，其特征在于：包括：
一基板；
一绝缘层，设置于所述基板上，所述绝缘层具有一阶形通孔；
一有机光阻体，设置于所述基板上的所述绝缘层的所述阶形通孔内；
一源漏电极走线，设置于所述有机光阻体上方；
一有机光阻层，设置于所述源漏电极走线上方；
一光敏胶层，设置于所述有机光阻层上方；及
一应力缓冲层，对应设置于所述源漏电极走线上方。
2.如权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述应力缓冲层设置在所述有机光阻层内、在所述光敏胶层内或在所述有机光阻层与所述光敏胶层之间。
3.如权利要求2所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述有机光阻层包括一平坦层及一像素定义层，所述应力缓冲层设置于所述平坦层与所述像素定义层之间。
4.如权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述应力缓冲层的厚度随着与所述源漏电极走线相距的距离而变化，所述应力缓冲层距离所述源漏电极走线越近，所述应力缓冲层的厚度越厚。
5.如权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述应力缓冲层由一无机膜层、一金属膜层及一有机膜层中的至少一种组成。
6.如权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述应力缓冲层为一面状构造或一图案化构造。
7.如权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述绝缘层与所述有机光阻体设置在所述基板的同一表面，所述有机光阻体的外径由所述有机光阻体接近所述基板的一端朝向所述有机光阻体远离所述基板的另一端渐增。
8.如权利要求7所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述有机光阻体的外周面在所述有机光阻体的二端之间形成一肩部。
9.如权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于：所述阶形通孔包括一第一锥孔部及一第二锥孔部，所述第一锥孔部的一最小孔径大于所述第二锥孔部的一最大外径，所述第一锥孔部与所述第二锥孔部之间具有一环接部。
10.一种显示装置，其特征在于：包含如权利要求1至9任一项所述的柔性阵列基板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
