[发明专利]半导体设备封装和其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910672268.2 申请日: 2019-07-24
公开(公告)号: CN111883518A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 颜尤龙;博恩·卡尔·艾皮特;凯·史提芬·艾斯格 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/66 分类号: H01L23/66;H01Q1/22;H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/52
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 蕭輔寬
地址: 中国台湾高雄市楠梓*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体设备 封装 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体设备封装,其包括:

载体,其具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;

囊封体,其安置于所述载体的所述第一表面上;以及

天线,其安置于所述囊封体上,所述天线包含晶种层和导电层。

2.根据权利要求1所述的半导体设备封装,其中所述导电层通过所述晶种层与所述囊封体分离。

3.根据权利要求1所述的半导体设备封装,其中所述天线的上部表面低于所述囊封体的上部表面。

4.根据权利要求1所述的半导体设备封装,其进一步包括安置于所述载体的所述第一表面上的屏蔽层。

5.根据权利要求4所述的半导体设备封装,其中所述屏蔽层包含晶种层和导电层。

6.根据权利要求4所述的半导体设备封装,其中所述囊封体囊封所述天线和所述屏蔽层。

7.根据权利要求1所述的半导体设备封装,其中所述天线进一步包括安置于所述晶种层和所述导电层上的保护层。

8.根据权利要求1所述的半导体设备封装,其中所述载体包含接近所述囊封体的第一导电层和接近所述第二表面的第二导电层。

9.根据权利要求8所述的半导体设备封装,其中所述载体进一步包含晶种层,且其中所述晶种层安置于所述第一导电层与所述第二导电层之间。

10.根据权利要求1所述的半导体设备封装,其中所述载体包括四边扁平无引脚QFN 结构。

11.一种半导体设备封装,其包括:

载体,其具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述载体包含接近所述第一表面的第一层和接近所述第二表面的第二层,所述第二层包含双层;以及

囊封体,其安置于所述载体的所述第一表面上,

天线,其安置于所述囊封体上,所述天线包含晶种层和导电层,

其中所述天线的所述晶种层和所述导电层中的一个的材料与所述第二层的所述双层中的一个的材料相同。

12.根据权利要求11所述的半导体设备封装,其中所述第二层中的导电物质在含量上大于所述第一层中的所述导电物质。

13.根据权利要求11所述的半导体设备封装,其中所述天线安置于所述囊封体的表面上的沟槽中。

14.根据权利要求13所述的半导体设备封装,其中所述双层中的一个包括与所述晶种层基本上相同的材料。

15.根据权利要求11所述的半导体设备封装,其进一步包括安置于所述载体的所述第一表面上的屏蔽层。

16.根据权利要求15所述的半导体设备封装,其中所述屏蔽层包含晶种层和导电层。

17.根据权利要求15所述的半导体设备封装,其中所述屏蔽层包围所述天线。

18.一种制造半导体封装设备的方法,其包括:

提供载体,所述载体包含接近所述载体的第一表面的第一经图案化层;

通过囊封体囊封所述载体;

在所述囊封体中形成沟槽;

在所述沟槽中和所述载体上形成导电层;以及

在所述沟槽中和所述载体上形成所述导电层之后,形成接近所述载体的第二表面的第二经图案化层,所述第二表面与所述第一表面相对。

19.根据权利要求18所述的方法,其中在所述沟槽中和所述载体上形成所述导电层之前,在所述沟槽中形成晶种层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910672268.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top