[发明专利]多层石墨烯及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910618248.7 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN110205603B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 彭海琳;王雅妮;邓兵;刘忠范 申请(专利权)人: 北京石墨烯研究院;北京大学
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/455;C23C16/02
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 司丽琦;于宝庆
地址: 100095 北京市海淀区苏家*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 多层 石墨 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种多层石墨烯的制备方法,其特征在于,包括步骤如下:

提供一铜箔;

将所述铜箔贴合于基底上;

退火处理所述贴合基底后的铜箔;及

于所述退火处理后的铜箔表面进行化学气相沉积生长石墨烯,得所述多层石墨烯;

其中,所述铜箔与所述基底之间具有间隔,且所述间隔小于10μm。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积过程中,接近所述基底一侧的铜箔表面通过的气流为分子流,远离所述基底一侧的铜箔表面通过的气流为层流。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,通入碳源和保护气于化学气相沉积系统进行所述化学气相沉积,所述碳源选自甲烷、乙烷、乙烯和乙炔中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积系统采用管径为1~D英寸的石英管,其中D1,所述碳源的流量为0.5D2~D2sccm,所述保护气与所述碳源的流量比为500:1~2000:1。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积的压力为1kPa~4kPa,所述生长时间为1小时~5小时。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述基底材料熔点高于所述退火处理的温度。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述基底为石英或刚玉。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述退火处理在氢气气氛下进行,所述氢气的流量不小于50sccm,所述退火处理的温度为950℃~1000℃,所述退火处理的时间为10min~60min。

9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述铜箔贴合于所述基底前,对所述铜箔进行电化学抛光。

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