[发明专利]一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料和组件的制备方法在审
| 申请号: | 201910604539.0 | 申请日: | 2019-07-05 |
| 公开(公告)号: | CN110335837A | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
| 发明(设计)人: | 邹美帅;李永辉;王志宏;胡永琪;冯笑;李玉川;张旭东;李晓东 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学;北京理工大学鲁南研究院 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;C08J9/12;C08L29/04 |
| 代理公司: | 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 | 代理人: | 郭卫芹 |
| 地址: | 100089 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体晶圆 制备 高分子材料 清洗刷组件 多孔亲水 亲水多孔 柔软 清洗 原料混合物 模具 亲水高分子材料 注塑 填充物 多孔柔性 聚合成型 清洗工艺 柔性亲水 成孔 耗材 粒径 不锈钢 淀粉 半导体 成型 配制 清水 压缩 贯穿 帮助 | ||
1.一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于,包括柔软亲水多孔高分子材料和中空的塑料顶杆用来支撑多孔柔性亲水高分子材料,其中,所述柔软亲水多孔高分子材料中的孔径相互贯穿,粒径大小在10-350微米之间,平均在40-200微米之间,孔径含量在60-98%之间,较好在80-95%之间,在水和清洗液的帮助下用于清洗磨擦晶圆一面,去除附着在晶圆表面的有机物,颗粒,金属污染物等残留。
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于:所述高分子亲水材料制备包括聚乙烯醇,淀粉,表面活性剂,交联剂,催化剂,聚乙烯醇分子量处于1200-600000之间,醇解度66-100%,较好聚乙烯醇分子量处于1500-200000之间,醇解度80-100%;淀粉来源于玉米,马铃薯,番薯,麦类,高粱,大米等,淀粉粒径在5-150微米,较好用15-120微米粒径,淀粉添加量在1-15%;表面活性剂包括阳离子型,阴离子型和非离子型表面活性剂中的一种或多种,较好用非表面活性剂;交联剂包括甲醛,乙醛,丁醛,戊二醛,苯甲醛,环氧氯丙烷等中的一种或多种,较好用甲醛,丁醛,戊二醛或环氧氯丙烷;催化剂可为盐酸,硫酸,磷酸或其它无机酸,有机酸中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于:所述高分子亲水材料制备采用无淀粉方法,原料包括聚乙烯醇,增稠剂,发泡剂,表面活性剂,交联剂,催化剂,聚乙烯醇分子量处于1200-600000之间,醇解度66-100%,较好聚乙烯醇分子量处于1500-200000之间,醇解度80-100%;增稠剂用于调节体系的粘度,稳定发泡剂和气泡,调节孔径大小,本专利发明用耐酸性型增稠剂;发泡剂包括氮气,二氧化碳等惰性气体,低沸点二氯甲烷,戊烷,己烷等液体发泡剂,有机类或无机类化学发泡剂如偶氮类,磺酰肼类,碳酸氢盐类;表面活性剂有起泡和稳泡作用,用于稳定分散发泡剂和所产生气泡,表面活性剂包括阳离子型,阴离子型和非离子型表面活性剂中的一种或多种,较好用非表面活性剂;交联剂包括甲醛,乙醛,丁醛,戊二醛,苯甲醛,环氧氯丙烷中的一种或多种,较好用甲醛,丁醛,戊二醛或环氧氯丙烷;催化剂可为盐酸,硫酸,磷酸或其它无机酸,有机酸中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于:所述亲水多孔高分子材料是聚氨酯多孔材料,聚氨酯采用聚乙二醇或聚乙烯醇为亲水柔性链段,利用含多异氰酸酯官能团化合物为偶联剂,表面活性剂来稳定成孔填料,发泡剂等,在催化剂作用下完成交联,引成多孔亲水聚氨酯柔性材料。
5.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于:所述中空的塑料顶杆用来支撑多孔柔性亲水高分子材料,顶杆材料包括尼龙,聚乙烯,聚丙烯,PET,PVC,PC,PS等,中空顶杆一段开口用于导入清洗用去离子水,另一端封闭,顶杆壁上有许多开口,开口可以引导去离子水有里往外流动穿过高分子材料的贯穿孔到达晶圆表面并清洗晶圆,在注塑成型时一部分反应物流入顶杆壁上开口,聚合后帮助柔性亲水高分子材料牢固地固定在顶杆上;所述顶杆外表面有许多突起,突起可以是圆形,圆柱形,方块形等形状,突起也可以具有上面宽下面窄的特点,这些特点可以保证多孔柔性亲水高分子材料可靠的固定在顶杆上,突起可以有不同的形状,这些形状要有利于柔性亲水高分子材料牢固在顶杆上。
6.根据权利要求5所述的一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于:所述顶杆外壁上同时有多个开口,开口可以引导去离子水有里往外流动穿过高分子材料的贯穿孔到达晶圆表面并清洗晶圆,在注塑成型时一部分反应物流入顶杆壁上开口,聚合后帮助柔性亲水高分子材料牢固地固定在顶杆上。
7.根据权利要求5所述的一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料,其特征在于:所述顶杆外表面上的突起还具有直通顶杆中空的开口,这些开口容许在注塑成型时一部分反应物流入顶杆壁上开口,聚合后帮助柔性亲水高分子材料牢固地固定在顶杆上,同时应用时开口可以引导去离子水有里往外流动穿过高分子材料的贯穿孔到达晶圆表面并清洗晶圆。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学;北京理工大学鲁南研究院,未经北京理工大学;北京理工大学鲁南研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910604539.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:焊线控制装置
- 下一篇:传输装置、传输腔室及防止机械手腐蚀的方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





