[发明专利]热处理装置

权利要求书

1.一种热处理装置，其特征在于，通过对衬底照射光而将该衬底加热，且具备：

腔室，收容衬底；

石英制的基座，将所述衬底载置并保持于所述腔室内；

光照射部，对保持于所述基座的所述衬底照射光；

第1放射温度计，测定所述基座的温度；

第2放射温度计，测定保持于所述基座的所述衬底的温度；及

控制部，控制来自所述光照射部的光照射；且

所述第1放射温度计接收波长比4μm长的红外光而测定所述基座的温度，

在将虚设衬底保持于所述基座的状态下从所述光照射部进行光照射而将所述基座加热时，所述控制部基于所述第1放射温度计测得的所述基座的温度控制所述光照射部的输出，

所述控制部在基于所述第2放射温度计测得的所述虚设衬底的温度控制所述光照射部的输出后，基于所述第1放射温度计测得的所述基座的温度控制所述光照射部的输出。

2.根据权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，

还具备设置于所述基座与所述第1放射温度计之间的偏光元件，且

所述第1放射温度计设置于沿着以布鲁斯特角入射到所述基座的表面的光的反射光的行进方向的位置，

所述偏光元件仅让p偏光通过。